[发明专利]一种三维移动阴极磁控溅射靶

说明书

技术领域

本发明涉及一种三维移动阴极磁控溅射靶，特别涉及用于真航空领域，对复合曲面进行大面积镀膜的一种三维移动阴极磁控溅射靶。

背景技术

现有的真空镀膜设备，基本都是靶材固定不动，靠移动基材来使镀膜均匀。然而对于大面积的基材，由于真空室空间的限制，移动基材是不现实的，为解决这个问题，就需要改为移动靶材来完成镀膜的工作。此外，如对于大面积且系复合曲面基材时，只靠水平的直线运动无法实现镀膜的连续性和均匀性。因此复合曲面的大面积镀膜，需要设计一种可以三维移动的阴极磁控溅射靶材，才能够实现快速、均匀的大面积镀膜。

发明内容

本发明的目的在于提供一种三维移动阴极磁控溅射靶，在基材不移动的情况下，靶材以三维方式移动来实现快速、均匀的大面积复合曲面镀膜。

为了实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明采用一下技术方案实现：

一种三维移动阴极磁控溅射靶，其主结构包括支撑平台、水平导轨、垂直导轨、垂直移动平台、靶材支架。所述支撑平台是用来承载所述垂直移动平台和所述靶材支架并沿所述水平导轨运动。所述支撑平台底部左右两端各有两个轮子可以沿导轨滚动，右端通过螺纹孔与一根水平的螺杆相连，水平螺杆控制所述支撑平台的水平移动。中间部位固定所述垂直导轨及其电动控制装置。

优选的，所述水平导轨安装在真空室底部，由两条导轨和一条螺杆组成。所述支撑平台通过两端的四个轮子可以在导轨上作水平运动，由螺杆传动精确控制其水平位移。

优选的，所述垂直导轨由四根螺杆构成，支撑着所述垂直移动平台。螺杆与所述支撑平台连接处没有螺纹，通过轴承固定在所述支撑平台上。螺杆底部安装链轮，四个链轮由链条连接在一起并由电动控制装置以达到运动的一致性。链条、链轮以及电动控制装置的主动轮都在所述支撑平台的下方。

优选的，所述垂直移动平台用来承载所述靶材支架作垂直运动。所述垂直移动平台四个角有螺纹孔与螺杆连接，中间部位用螺栓固定所述靶材支架。

优选的，所述靶材支架承载着靶材，其材料为不锈钢。

靶材的运动均由预先编写的电脑程式控制，使其轨迹与基材外部曲面对应。

以上说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的具体实施方式并配合附图对本专利进行说明。

附图说明

图1是本发明三维移动阴极磁控溅射靶结构三视图。

具体实施方式

如图1所示，本发明三维移动阴极磁控溅射靶，其主结构包括支撑平台1、水平导轨3、垂直导轨5、垂直移动平台6、靶材支架7。

支撑平台1是用来承载垂直移动平台6和靶材支架7并沿水平导轨3运动。支撑平台1底部左右两端各有两个轮子4可以沿导轨3滚动。右端通过螺纹孔与一根水平螺杆2相连，水平螺杆2控制支撑平台1的水平移动。中间部位固定垂直导轨5及其电动控制装置。

水平导轨3安装在真空室底部，由两条导轨3和一条螺杆2组成。支撑平台1通过两端的四个轮子4可以在水平导轨3上作水平运动，由水平螺杆2传动精确控制其水平位移。

垂直导轨5由四根螺杆构成，支撑着垂直移动平台6。螺杆与支撑平台1连接处没有螺纹，通过轴承8固定在支撑平台上。螺杆底部安装链轮9，四个链轮由链条连接在一起并由电动控制装置以达到运动的一致性。链条、链轮9以及电动控制装置的主动轮都在支撑平台1的下方。

垂直移动平台6用来承载靶材支架7作垂直运动。平台四个角有螺纹孔与螺杆连接，中间部位用螺栓固定靶材支架7。

靶材支架7承载着靶材，其材料为不锈钢。

上述实例可在不脱离本发明的范围下加以若干变化，故以上的说明及附图中所示的结构应视为示例性，而非用以限制本发明的申请专利范围。凡根据本发明做出的等效变化或修饰，都涵盖在本发明的保护范围内。