[发明专利]滤光片及其制备方法、彩膜基板和显示装置有效
申请号: | 201310130924.9 | 申请日: | 2013-04-16 |
公开(公告)号: | CN103235356A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 张洪术;邵喜斌 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02B5/26 | 分类号: | G02B5/26;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 滤光 及其 制备 方法 彩膜基板 显示装置 | ||
1.一种滤光片,其特征在于,所述滤光片包括相互贴合的第一介质膜,第二介质膜和第三介质膜;
所述滤光片包括第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域;
所述第一介质膜在所述滤光片的所述第一像素区域被去除,所述第二介质膜在所述滤光片的所述第二像素区域被去除,所述第三介质膜在所述滤光片的所述第三像素区域被去除;
所述第一介质膜反射第一波长范围内的光线,透射第一波长范围外的光线;所述第二介质膜反射第二波长范围内的光线,透射第二波长范围外的光线;所述第三介质膜反射第三波长范围内的光线,透射第三波长范围外的光线。
2.根据权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述第一波长范围为600nm~780nm,第一介质膜为红介质膜;所述第二波长范围为480nm~600nm,第二介质膜为绿介质膜;所述第三波长范围为390nm~480nm,第三介质膜为蓝介质膜。
3.根据权利要求1或2所述的滤光片,其特征在于,所述第一、第二和第三介质膜均包括多个周期,每个周期由至少两层不同折射率的介质层交叠排列而成。
4.根据权利要求3所述的滤光片,其特征在于,所述第一、第二和第三介质膜均由高折射率介质层和低折射率介质层交替层叠构成。
5.根据权利要求4所述的滤光片,其特征在于,所述高折射率介质层的折射率和所述低折射率介质层的折射率的差值大于或等于0.2。
6.根据权利要求4所述的滤光片,其特征在于,所述第四介质膜为第一、第二和第三介质膜中的任一介质膜,所述第四介质膜的反射波长范围为L1~L2;
沿入射光方向,若所述低折射率介质层排列在所述高折射率介质层之前,则所述第四介质膜中:
第i个周期中低折射率介质层的厚度为d1i=[L1+k(2i-1-1)]/4n1,
第i个周期中高折射率介质层的厚度为d2i=[L1+k(2i-1)]/4n2;
沿入射光方向,若所述低折射率介质层排列在所述高折射率介质层之后,则所述第四介质膜中:
第i个周期中低折射率介质层的厚度为d1=[L1+k(2i-1)]/4n1,
第i个周期中高折射率介质层的厚度为d2=[L1+k(2i-1-1)]/4n2;
其中,k为递增系数,且0.5≤k≤16,i为自然数,且0<i≤Z/2,n1为所述低折射率介质层的折射率,n2为所述高折射率介质层的折射率。
7.根据权利要求4所述的滤光片,其特征在于,
所述低折射率介质层的折射率为1.0~1.8;
所述高折射率介质层的折射率为1.2~2.0。
8.根据权利要求7所述的滤光片,其特征在于
所述低折射率介质层为折射率1.57的聚对苯二甲酸类塑料,所述高折射率介质层为折射率1.82的聚对苯二甲酸类塑料。
9.根据权利要求3所述的滤光片,其特征在于,所述介质层材料为包括聚对苯二甲酸类在内的有机材料;或者为,
包括二氧化钛、二氧化硅、五氧化三钛、氧化铝、氮化硅在内的氧化物或氮化物材料。
10.根据权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述滤光片还包括黑矩阵区域,所述黑矩阵区域分隔所述第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域,所述黑矩阵区域的滤光片反射第一波长范围内、第二波长范围内、第三波长范围内的光线。
11.一种彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板包括如权利要求1-10任一项所述的滤光片。
12.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括如权利要求1-10任一项所述的滤光片。
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