[发明专利]滤光片及其制备方法、彩膜基板和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种滤光片及其制备方法、彩膜基板和显示装置。

背景技术

彩膜基板(也称彩色滤光片)为液晶平面显示器彩色化之关键零组件。液晶平面显示器为非主动发光之组件，其色彩之显示必需透过内部的背光模块或外部的环境入射光提供光源，再搭配驱动电路与液晶驱动控制形成灰阶显示，而后透过彩膜层的红(R)、绿(G)、蓝(B)像素区域提供色相，形成彩色显示画面。

彩膜基板的基本结构由玻璃基板、黑矩阵、彩膜层、保护层，透明导电膜组成。其中，彩膜层由色胶涂覆成红(R)、绿(G)、蓝(B)像素区域，像素之间用黑矩阵隔开，现有彩膜层采用的原理是吸收式的，即彩膜层的像素区域只允许特定颜色的可见光通过，其余颜色的可见光均被吸收，例如对涂覆有红色色胶的红像素区域，只允许红可见光通过，其余可见光均被吸收，可见光透过率低(只有30％左右)，对入射光(或背光)的利用率也低，此外，彩膜层因吸收其余可见光的能量还会导致温度升高。

发明内容

本发明提供一种滤光片及其制备方法、彩膜基板和显示装置，可提高对入射光(或背光)的利用率，避免入射光(或背光)转化为无用的热耗。

为解决上述技术问题，本发明的实施例采用如下技术方案：

一种滤光片，所述滤光片包括相互贴合的第一介质膜，第二介质膜和第三介质膜；

所述滤光片包括第一像素区域、第二像素区域和第三像素区域；

所述第一介质膜在所述滤光片的所述第一像素区域被去除，所述第二介质膜在所述滤光片的所述第二像素区域被去除，所述第三介质膜在所述滤光片的所述第三像素区域被去除；

所述第一介质膜反射第一波长范围内的光线，透射第一波长范围外的光线；所述第二介质膜反射第二波长范围内的光线，透射第二波长范围外的光线；所述第三介质膜反射第三波长范围内的光线，透射第三波长范围外的光线。

可选地，所述第一波长范围为600nm～780nm，第一介质膜为红介质膜；所述第二波长范围为480nm～600nm，第二介质膜为绿介质膜；所述第三波长范围为390nm～480nm，第三介质膜为蓝介质膜。

具体地，所述第一、第二和第三介质膜均包括多个周期，每个周期由至少两层不同折射率的介质层交叠排列而成。

可选地，所述第一、第二和第三介质膜均由高折射率介质层和低折射率介质层交替层叠构成。

优选地，所述高折射率介质层的折射率和所述低折射率介质层的折射率的差值大于或等于0.2。

可选地，所述第四介质膜为第一、第二和第三介质膜中的任一介质膜，所述第四介质膜的反射波长范围为L1～L2；

沿入射光方向，若所述低折射率介质层排列在所述高折射率介质层之前，则所述第四介质膜中：

第i个周期中低折射率介质层的厚度为d_1i＝[L₁+k(2i-1-1)]/4n₁，

第i个周期中高折射率介质层的厚度为d_2i＝[L₁+k(2i-1)]/4n₂；

沿入射光方向，若所述低折射率介质层排列在所述高折射率介质层之后，则所述第四介质膜中：

第i个周期中低折射率介质层的厚度为d₁＝[L₁+k(2i-1)]/4n₁，

第i个周期中高折射率介质层的厚度为d₂＝[L₁+k(2i-1-1)]/4n₂；

其中，k为递增系数，且0.5≤k≤16，i为自然数，且0＜i≤Z/2，n₁为所述低折射率介质层的折射率，n₂为所述高折射率介质层的折射率。

可选地，所述低折射率介质层的折射率为1.0～1.8；

所述高折射率介质层的折射率为1.2～2.0。

第一反射膜反射第一波长范围内的光线，透射第一波长范围外的光线

可选地，所述低折射率介质层为折射率1.57的聚对苯二甲酸类塑料，所述高折射率介质层为折射率1.82的聚对苯二甲酸类塑料。

可选地，所述介质层材料为包括聚对苯二甲酸类在内的有机材料；或者为，

包括二氧化钛、二氧化硅、五氧化三钛、氧化铝、氮化硅在内的氧化物或氮化物材料。

优选地，所述聚对苯二甲酸类有机材料包括聚对苯二甲酸乙二酯和聚对苯二甲酸丁二酯。