[发明专利]感放射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜以及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201310131736.8 申请日: 2013-04-16
公开(公告)号: CN103376649A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 八代隆郎;松村信司;高瀬英明 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/029;G03F7/031;G03F7/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京港*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 放射 线性 组合 显示 元件 用层间 绝缘 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种感放射线性组合物,其特征在于含有:[A]具有含有酸解离性基的结构单元(I)、含有聚合性基的结构单元(II)及下述式(1)所表示的结构单元(III)的聚合物;以及

[B]感放射线性酸产生剂:

[化1]

式(1)中,R1为氢原子或者甲基;R2为碳数6~30的烷基、烯基、炔基或酰氧基烷基或者碳数4~30的交联环式烃基;其中,所述烷基、烯基、炔基、酰氧基烷基以及交联环式烃基所具有的氢原子的一部分可经羟基或羧基取代。

2.根据权利要求1所述的感放射线性组合物,其特征在于:还含有[C]包含1个以上的(甲基)丙烯酰基且分子量1,000以下的化合物。

3.根据权利要求1所述的感放射线性组合物,其特征在于:所述结构单元(I)中的酸解离性基是由下述式(2)所表示:

[化2]

式(2)中,R3及R4分别独立地为氢原子、烷基、脂环式烃基或者芳基;其中,这些烷基、脂环式烃基或者芳基所具有的氢原子的一部分或者全部可被取代;另外,不存在R3及R4均为氢原子的情况;R5为烷基、脂环式烃基、芳烷基、芳基或者-M(R6)3所表示的基团;M为Si、Ge或者Sn;R6为烷基;其中,R5的烷基、脂环式烃基、芳烷基及芳基以及R6的烷基所具有的氢原子的一部分或者全部可被取代;R3与R5可相互键结而与R3所键结的碳原子以及R5所键结的氧原子一起形成环状醚结构。

4.根据权利要求1所述的感放射线性组合物,其特征在于:所述结构单元(II)中的聚合性基为环氧基。

5.根据权利要求1所述的感放射线性组合物,其特征在于:所述[A]聚合物中的所述结构单元(III)的含有率为3质量%以上、50质量%以下。

6.根据权利要求2所述的感放射线性组合物,其特征在于:所述[C]化合物为具有源自碳数2~12的二醇结构的骨架、源自三羟甲基丙烷的骨架、源自季戊四醇的骨架或者源自二季戊四醇的骨架的化合物。

7.根据权利要求2所述的感放射线性组合物,其特征在于:所述[C]化合物的含量以固体成分换算为1质量%以上、50质量%以下。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的感放射线性组合物,其特征在于:用于形成显示元件用层间绝缘膜。

9.一种显示元件用层间绝缘膜,其特征在于:由根据权利要求8所述的感放射线性组合物所形成。

10.一种显示元件用层间绝缘膜的形成方法,其特征在于包括:

(1)使用根据权利要求8所述的感放射线性组合物,在基板上形成涂膜的步骤;

(2)对所述涂膜的至少一部分照射放射线的步骤;

(3)对照射了放射线的所述涂膜进行显影的步骤;以及

(4)对进行了显影的所述涂膜进行加热的步骤。

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