[发明专利]感放射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜以及其形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种感放射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜以及其形成方法。

背景技术

显示元件中，通常出于使配置为层状的配线之间绝缘的目的而设置有显示元件用层间绝缘膜。作为显示元件用层间绝缘膜的形成材料，由于用于获得所需图案形状的步骤数少，并且对所得的显示元件用层间绝缘膜要求高度的平坦性，故而广泛使用感放射线性树脂组合物。对于这种感放射线性树脂组合物要求良好的感度，并且对显示元件用层间绝缘膜除了要求上述平坦性以外，而且要求优异的表面硬度、耐溶剂性、耐热性、电压保持率等。

这种感放射线性树脂组合物已知有含有交联剂、酸产生剂以及碱可溶性树脂的组合物(参照日本专利特开2004-4669号公报)。所谓上述碱可溶性树脂，是指具有保护基(对碱水溶液不溶或者难溶，且可利用酸的作用而解离的基团)，且该保护基解离后变得对碱水溶液可溶性或者易溶性的树脂。另外，其他感放射线性树脂组合物提出有含有缩醛结构或者缩酮结构以及环氧基的树脂与含有酸产生剂的感放射线性树脂组合物(参照日本专利特开2004-264623号公报)。

但是，上述现有的感放射线性树脂组合物中，由于放射线感度不充分，故而具有无法容易地形成微细且精巧的图案的不良情况。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2004-4669号公报

专利文献2：日本专利特开2004-264623号公报

发明内容

本发明是基于如上所述的情况而形成，其目的在于提供一种具有更高的感度且可形成表面硬度、耐溶剂性、耐热性以及电压保持率优异的显示元件用层间绝缘膜的感放射线性组合物，使用该感放射线性组合物而形成的显示元件用层间绝缘膜以及其形成方法。

为了解决上述课题而形成的发明为一种感放射线性组合物，其含有：

[A]具有含有酸解离性基的结构单元(I)、含有聚合性基的结构单元(II)以及下述式(1)所表示的结构单元(III)的聚合物(以下也称为“[A]聚合物”)；以及

[B]感放射线性酸产生剂。

[化1]

式(1)中，R¹为氢原子或者甲基；R²为碳数6～30的烷基、烯基、炔基或者酰氧基烷基或者碳数4～30的交联环式烃基；其中，上述烷基、烯基、炔基、酰氧基烷基以及交联环式烃基所具有的氢原子的一部分可经羟基或羧基取代。

该感放射线性组合物中，由于[A]聚合物具有包含R²所表示的基团的结构单元(III)，硬化前的柔软性提高，结果促进曝光时所产生的酸的扩散，而可进一步提高感度。另外，该感放射线性组合物中，由于[A]聚合物具有含有聚合性基的结构单元(II)，而能够形成具有充分的表面硬度、耐溶剂性、耐热性以及电压保持率的显示元件用层间绝缘膜等硬化膜。

该感放射线性组合物优选为还含有[C]包含1个以上的(甲基)丙烯酰基且分子量1,000以下的化合物(以下也称为“[C]化合物”)。该感放射线性组合物通过还含有[C]化合物，能够形成进一步提高了表面硬度、耐溶剂性、耐热性以及电压保持率的硬化膜。

上述结构单元(I)中的酸解离性基优选为由下述式(2)所表示。

[化2]

式(2)中，R³及R⁴分别独立地为氢原子、烷基、脂环式烃基或者芳基；其中，这些烷基、脂环式烃基或者芳基所具有的氢原子的一部分或者全部可被取代；另外，不存在R³及R⁴均为氢原子的情况；R⁵为烷基、脂环式烃基、芳烷基、芳基或者-M(R⁶)₃所表示的基团；M为Si、Ge或者Sn；R⁶为烷基；其中，R⁵的烷基、脂环式烃基、芳烷基及芳基以及R⁶的烷基所具有的氢原子的一部分或者全部可被取代；R³与R⁵可相互键结而与R³所键结的碳原子以及R⁵所键结的氧原子一起形成环状醚结构。

上述式(2)所表示的酸解离性基具有因自[B]感放射线性酸产生剂产生的酸的作用而容易解离的结构。因此，该感放射线性组合物通过包含这种含有酸解离性基的[A]聚合物，能够进一步提高感度，可容易地形成微细且精巧的图案。