[发明专利]离子注入用基板载置部件及离子注入方法

权利要求书

1.一种离子注入用基板载置部件，其用于载置被注入离子的基板，该离子注入用基板载置部件的特征在于，

具有在注入所述离子的方向的上游侧开口的凹部，

从注入所述离子的方向观察，所述凹部具有与所述基板相同的形状，

所述凹部的周壁部覆盖所述基板的侧面。

2.如权利要求1所述的离子注入用基板载置部件，其特征在于，

所述周壁部的高度在所述基板的厚度以上。

3.如权利要求1或2所述的离子注入用基板载置部件，其特征在于，

在所述凹部的底面沿所述周壁部形成有槽部。

4.如权利要求1～3中任一项所述的离子注入用基板载置部件，其特征在于，

该离子注入用基板载置部件能够兼用作输送所述基板的输送托盘。

5.如权利要求1～4中任一项所述的离子注入用基板载置部件，其特征在于，

在所述凹部的底面形成有孔部，该孔部能够插穿用于推出所述基板的部件。

6.一种离子注入方法，其向基板注入离子，该离子注入方法的特征在于，包括：

由预定物体覆盖所述基板的侧面的工序；及

向所述侧面被所述物体覆盖后的所述基板注入所述离子的工序。

7.如权利要求6所述的离子注入方法，其特征在于，

所述物体具有大于所述基板的厚度的高度。

8.如权利要求6或7所述的离子注入方法，其特征在于，

所述物体与载置所述基板的离子注入用基板载置部件是分体的。