[发明专利]磁力线辐射发散的磁瓦的制作方法

权利要求书

1.一种磁力线辐射发散的磁瓦的制作方法，其特征在于：包括如下步骤：

（1）、对具有磁力线β平行分布的磁块M进行表面清洁处理；

（2）、用不与磁块M发生物理化学反应的材料制备基座（100），所述基座（100）的顶部具有弧面（30），基座（100）上位于所述弧面（30）的下方形成有与弧面（30）弧度相同的弧形空腔（10），所述弧面（30）上开有与所述弧形空腔（10）联通的、布满弧面（30）的通孔（20）；

（3）、将磁块M置于基座（100）的弧面（30）上；所述基座（100）的弧形空腔（10）内装有溅射靶材N，所述溅射靶材N是由Ⅰ类稀土材料和Ⅱ类金属材料构成的合金，所述Ⅰ类稀土材料由La、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho中的一种或几种以任意比例混合，占所述溅射靶材N总重量的范围是：大于等于80%且小于100%；所述Ⅱ类金属材料由Ga、Al、Sn、Mg、Ca、Cu中的一种或几种以任意比例混合；

（4）、将磁块M和基座（100）一同置于真空烧结装置中，所述真空烧结装置内安装有可调节压力装置（300），所述可调节压力装置（300）的输出压力端安装有用不与磁块M发生物理化学发应的材料制备的、底部呈圆弧状的压力件（200），所述磁块M置于所述压力件（200）的圆弧状底部的下方；

（5）、分如下四阶段实施热处理工艺：

a、将真空烧结装置的真空度排至1×10^-3Pa以下，同时启动加热系统升温至500℃，调节可调节压力装置（300）的输出压力至0.1～0.5MPa，压力件（200）在调节好的温度、压力下压磁块M，并保持1～2h； 

b、利用加热系统升温至500～600℃，调节可调节压力装置的输出压力至0.5～1MPa，压力件（200）在调节好的温度、压力下压磁块M，并在保持2～5h；

c、利用加热系统升温至600～700℃，调节可调节压力装置（300）的输出压力至1～1.5MPa，压力件（200）在调节好的温度、压力下压磁块M，并保持2～5h；

d、利用加热系统升温至700～1000℃，调节可调节压力装置（300）的输出压力至1.5～2MPa，压力件（200）在调节好的温度、压力下压磁块M，并保持4～24h；

通过上述热处理工艺处理后，所述磁块M的下表面形成其与所述基座（100）的弧面（30）相吻合的弧面，磁块M的上表面在压力下自然形成弧面；

（6）、冷却至室温后取出，完成将具有磁力线β平行分布的磁块M制成具有磁力线β聚焦成辐射状分布的磁瓦（400）。

2.根据权利要求1所述的磁力线辐射发散的磁瓦的制作方法，其特征在于：所述步骤（5）中，升温的速度为5℃/min。

3. 根据权利要求1或2所述的磁力线辐射发散的磁瓦的制作方法，其特征在于：所述步骤（2）中基座（100）的制备材料采用Mo、Hf、W、Ta、Nb、Zr的一种或以上几种以任意比例混合。

4.权利要求3所述的磁力线辐射发散的磁瓦的制作方法，其特征在于：所述步骤（2）中基座（100）的弧面（30）上的通孔（20）为方孔，所述方孔成排规则地布满所述弧面（30）。

5.权利要求4所述的磁力线辐射发散的磁瓦的制作方法，其特征在于：所述步骤（2）中的基座（100）在温度273K～1273K范围内的膨胀系数低于10X10^-6m/K。

6.根据权利要求1或2所述的磁力线辐射发散的磁瓦的制作方法，其特征在于：所述步骤（3）中溅射靶材N呈颗粒状。

7.根据权利要求6所述的磁力线辐射发散的磁瓦的制作方法，其特征在于：所述步骤（3）中溅射靶材N中所述Ⅰ类稀土材料由Pr、Nd、Dy、Ho的一种或几种以任意比例混合，占溅射靶材总重量的90%以上；所述Ⅱ类金属材料由Ga、Al、Cu中的一种或几种以任意比例混合。