[发明专利]复合金属氧化物为钝化参考电极的埋藏式NASICON基H2传感器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310140721.8 申请日: 2013-04-23
公开(公告)号: CN103257161A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 梁喜双;张含;卢革宇 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: G01N27/26 分类号: G01N27/26;G01N27/30
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 张景林;刘喜生
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 复合 金属 氧化物 钝化 参考 电极 埋藏 nasicon sub 传感器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种复合金属氧化物为钝化参考电极的埋藏式NASICON基H2传感器,其特征在于:由作为绝缘层的Al2O3陶瓷管、设置在Al2O3陶瓷管内部的镍镉合金加热丝、涂覆在Al2O3陶瓷管表面的第一NASICON离子导电层、制备在第一NASICON离子导电层表面的敏感电极、涂覆在敏感电极及第一NASICON离子导电层表面的第二NASICON离子导电层、制备在第二NASICON离子导电层表面的钝化参考电极组成,其中敏感电极为环形网状的Au材料,钝化参考电极由环形网状的Au材料及在其上涂覆的一层复合金属氧化物电极材料CoCrxMn2-xO4构成,其中0.8≤x≤1.2。

2.权利要求1所述的一种复合金属氧化物为钝化参考电极的埋藏式NASICON基H2传感器的制备方法,其步骤如下:

1)将NASICON与去离子水混合均匀成糊状,均匀涂覆在Al2O3陶瓷管表面,干燥后在500~700℃下烧结4~6小时,从而在陶瓷管表面形成厚度为0.2mm~0.5mm的第一NASICON离子导电层;

2)在第一NASICON离子导电层表面制作宽度为1~2mm的环形网状Au电极,作为敏感电极,厚度为60~80μm,并在Au电极上引出Pt导线,于800~850℃烧结0.4~0.6小时;

3)在第一NASICON离子导电层表面用涂覆的方法形成第二NASICON离子导电层,在850~950℃下烧结5~6小时;

4)在第二NASICON离子导电层表面制作宽度为1~2mm的环形网状Au电极,在Au电极上引出Pt导线,并在Au电极上涂覆复合金属氧化物电极材料CoCrxMn2-xO4,作为参考电极,厚度为0.1~0.3mm,干燥后在600~1000℃下烧结3~4个小时;

5)将3~5Ω/mm的镍镉加热线圈穿过Al2O3陶瓷管内作为加热器,进行焊接、封装,从而得到复合金属氧化物为钝化参考电极的埋藏式NASICON基H2传感器。

3.如权利要求2所述的一种复合金属氧化物为钝化参考电极的埋藏式NASICON基H2传感器的制备方法,其特征在于:是将0.8~1.2mol Cr(NO33、1mol Co(NO32、1.2~0.8mol Mn(NO32溶于20~50ml去离子水中,且Cr(NO33和Mn(NO32的摩尔数和与Co(NO32摩尔数的比为2:1,再加入10~15ml的浓硝酸和80~100ml的乙二醇,60~80℃水浴20~30小时,得到溶胶;在80~100℃下形成凝胶,在160~180℃下形成干凝胶,最后在600~1000℃下烧结6~8小时,从而得到复合金属氧化物电极材料CoCrxMn2-xO4,其中0.8≤x≤1.2。

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