[发明专利]一种多腔室等离子处理装置及其压力测试方法

权利要求书

1.一种多腔室等离子处理装置，其中，所述等离子处理装置包括至少两个子腔室，在两个子腔室之间的隔离壁上具有开口，在每个子腔室内部的基台上都放置有基片进行制程，其特征在于，所述等离子处理装置上设置有一压力测试装置，其分别连接于所述每个子腔室，在所述压力测试装置和每个子腔室之间还分别串联有一个阀门，所述压力测试装置能够单独测试任一个子腔室的腔室压力。

2.根据权利要求1所述的多腔室等离子处理装置，其特征在于，通过所述阀门的开启和闭合能够控制所述压力测试装置与腔室的压力连通。

3.根据权利要求1所述的多腔室等离子处理装置，其特征在于，所述压力测试装置包括压力计。

4.根据权利要求1所述的多腔室等离子处理装置，其特征在于，所述阀门包括三通挡板阀或三通截止阀。

5.根据权利要求1所述的多腔室等离子处理装置，其特征在于，所述等离子处理装置的下部还设置了一真空泵，其能够将每个子腔室的制程冗余和杂质排出制程区域。

6.根据权利要求1所述的多腔室等离子处理装置，其特征在于，所述等离子处理装置还包括一气体源，其能够将制程气体分别输送入每个子腔室。

7.根据权利要求6所述的多腔室等离子处理装置，其特征在于，所述气体源能够通过每个子腔室顶部设置的气体喷淋头将制程气体输送到每个子腔室的制程区域。

8.根据权利要求1所述的多腔室等离子处理装置，其特征在于，所述每个子腔室的基台上的基片外围还设置有一聚焦环。

9.根据权利要求1所述的多腔室等离子处理装置，其特征在于，所述每个子腔室的基台外围还设置有约束环。

10.一种用于根据权利要求1至9任一项所述的多腔室等离子处理装置的压力测试方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

在单位时间内将所述等离子处理装置的其中一个子腔室和所述压力测试装置之间的阀门开启，而关闭其他所有阀门；

在所述压力测试装置获得读数以后，关闭该阀门。