[发明专利]一种有机电致发光器件及其制备方法无效
申请号: | 201310143692.0 | 申请日: | 2013-04-24 |
公开(公告)号: | CN104124338A | 公开(公告)日: | 2014-10-29 |
发明(设计)人: | 周明杰;黄辉;张振华;王平 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 电致发光 器件 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及有机电致发光领域,特别涉及一种有机电致发光器件及其制备方法。
背景技术
1987年,美国Eastman Kodak公司的C.W.Tang和VanSlyke报道了有机电致发光研究中的突破性进展。利用超薄薄膜技术制备出了高亮度,高效率的双层有机电致发光器件(OLED)。10V下亮度达到1000cd/m2,其发光效率为1.51lm/W,寿命大于100小时。
OLED的发光原理是基于在外加电场的作用下,电子从阴极注入到有机物的最低未占有分子轨道(LUMO),而空穴从阳极注入到有机物的最高占有轨道(HOMO)。电子和空穴在发光层相遇、复合、形成激子,激子在电场作用下迁移,将能量传递给发光材料,并激发电子从基态跃迁到激发态,激发态能量通过辐射失活,产生光子,释放光能。
在传统的发光器件中,器件内部的光只有18%左右是可以发射到外部去的,而其他的部分会以其他形式消耗在器件外部,界面之间存在折射率的差(如玻璃与ITO之间的折射率之差,玻璃折射率为1.5,ITO为1.8,光从ITO到达玻璃,就会发生全反射),引起了全反射的损失,从而导致整体出光性能较低。因此,有必要提高OLED的发光效率。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明提供了一种有机电致发光器件及其制备方法,所述有机电致发光器件,包括依次层叠的导电阳极玻璃基底、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和复合阴极,所述复合阴极由依次层叠的掺杂层、功函数为2.0eV~3.5eV的低功函金属层和金属硫化物层组成,本发明提高了器件的导电能力和发光效率。
第一方面,本发明提供了一种有机电致发光器件,包括依次层叠的导电阳极玻璃基底、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和复合阴极,所述复合阴极由依次层叠的掺杂层、功函数为2.0eV~3.5eV的低功函金属层和金属硫化物层组成,所述掺杂层的材质为金属硫化物和金属酞菁类化合物以质量比1:0.1~1:0.4形成的混合材料,所述金属酞菁类化合物为酞菁铜(CuPc)、酞菁锌(ZnPc)、酞菁镁(MgPc)和酞菁钒(VPc)中的一种,所述金属硫化物为硫化锌(ZnS)、硫化镉(CdS)、硫化镁(MgS)和硫化铜(CuS)中的一种;所述低功函金属层材质为镁(Mg)、锶(Sr)、钙(Ca)和镱(Yb)中的一种;所述金属硫化物层的材质为硫化锌(ZnS)、硫化镉(CdS)、硫化镁(MgS)和硫化铜(CuS)中的一种。
优选地,所述掺杂层的厚度为100~300nm。
优选地,所述功函数为2.0eV~3.5eV的低功函金属层的厚度为5~20nm。
优选地,所述金属硫化物层的厚度为200~400nm。
优选地,所述导电阳极玻璃基底为铟锡氧化物玻璃(ITO)、铝锌氧化物玻璃(AZO)和铟锌氧化物玻璃(IZO)中的一种,更优选为ITO。
优选地,所述空穴注入层的材质为三氧化钼(MoO3)、三氧化钨(WO3)和五氧化二钒(V2O5),厚度为20~80nm。更优选地,所述空穴注入层的材质为MoO3,厚度为25nm。
优选地,所述空穴传输层的材质为1,1-二[4-[N,N′-二(p-甲苯基)氨基]苯基]环己烷(TAPC)、4,4',4''-三(咔唑-9-基)三苯胺(TCTA)和N,N’-(1-萘基)-N,N’-二苯基-4,4’-联苯二胺(NPB)中的一种,所述空穴传输层的厚度为20~60nm,更优选地,所述空穴传输层的材质为TCTA,厚度为30nm。
优选地,所述发光层的材质为4-(二腈甲基)-2-丁基-6-(1,1,7,7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃(DCJTB)、9,10-二-β-亚萘基蒽(ADN)、4,4'-双(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1,1'-联苯(BCzVBi)和8-羟基喹啉铝(Alq3)中的一种,厚度为5~40nm,更优选地,所述发光层的材质为Alq3,厚度为25nm。
优选地,所述电子传输层的材质为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉(Bphen)、3-(联苯-4-基)-5-(4-叔丁基苯基)-4-苯基-4H-1,2,4-三唑(TAZ)和N-芳基苯并咪唑(TPBI)中的一种,厚度为40~300nm,更优选地,所述电子传输层的材质为TAZ,厚度为100nm。
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