[发明专利]基于XML的半导体装备的工艺配方文档处理系统

说明书

技术领域

本发明涉及半导体装备控制技术领域，特别涉及一种基于XML的半导体装备的工艺配方文档处理系统。

背景技术

半导体工艺过程是一个多输入变量的动态过程，影响因素很多，且较为复杂，例如运动、压力、流量等参数的变化。仅以抛光工艺中的抛光压力为例，作为影响抛光效果最为关键的参数之一，大量的研究成果表明，增大抛光压力，使机械磨削作用加强，去除率提高，但是压力过大会影响材料表面抛光液的均匀分布，导致去除率不均匀，抛光垫磨损过快等问题，从而降低了抛光质量。如果抛光压力过小，又会降低去除率和生产效率，增加生产成本。为了保证良好的工艺效果，在抛光前期抛光压力应保持较大，到了抛光后期，抛光压力应适当减小。因此，在实际工艺过程中，只有严格设置每一步工艺的各项参数，才可获取满意的工艺效果。

由上可知，工艺配方对工艺质量影响巨大。随着工艺需求的不断变化，需要对工艺配方文档进行有效的管理。如果采用人工方式，不仅费时费力，而且容易出错，造成的后果将不堪设想。另外，针对不同的工艺过程，需要工艺人员在每次工艺前向半导体装备输入工艺所需的全部工艺参数，操作非常繁琐，不利于半导体装备的工艺发展。

XML（eXtensible Markup Language，可扩展标记语言）以其简单、直观、良好的结构描述，已成为一种很好的通用数据交换和数据存储形式。由于XML文档具有规定的格式，特别适用于表述结构性和逻辑性较强的信息，所以用XML文档形式来存取和表述半导体工艺配方非常合适。而且作为一种标准，XML文档可以很方便地创建并被XML解析器读取，在系统的开发中大大降低了程序设计的难度。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。

为此，本发明的目的在于提出一种安全可靠且操作方便的基于XML的半导体装备的工艺配方文档处理系统，该处理系统便于建立、编辑、保存、打开和下载半导体装备的工艺配方文档，省时省力、防止人为出错且节约人工成本。

为了实现上述目的，本发明的实施例提供了一种基于XML的半导体装备的工艺配方文档处理系统，包括：下位机组，所述下位机组与半导体装备的各工艺单元相连，用于接收和存储当前工艺配方，并根据当前工艺配方的参数控制各工艺单元的运行；和上位机，所述上位机与所述下位机组相连，用于根据工艺需求管理工艺配方文档，并可对文档进行解析，将解析后的工艺配方内容下载到下位机组中。

根据本发明实施例的基于XML的半导体装备的工艺配方文档处理系统，解决了半导体装备工艺配方的建立、编辑、保存、读取和下载等问题，方便工艺人员使用，易于操作。

另外，根据本发明上述实施例的基于XML的半导体装备的工艺配方文档处理系统还可以具有如下附加的技术特征：

在一些示例中，所述上位机还用于对已创建的工艺配方文档进行打开、编辑和保存操作。

在一些示例中，所述下位机组包括多个下位机，每个下位机分别与所述半导体装备中的每个工艺单元相连。

在一些示例中，所述上位机进一步包含：OPC服务器，所述OPC服务器配置所述下位机组信息以实现所述OPC服务器与所述下位机组的通讯，其中，所述下位机组信息包括各个下位机的名称和地址；客户端，所述客户端与所述OPC服务器相连，基于所述客户端，工艺人员利用处理系统的图形用户界面可实时访问OPC服务器，并将工艺配方内容下载到下位机组中。如果工艺配方不变，无需重复下载。

在一些示例中，所述图形用户界面包括：文档编辑子界面和文档下载子界面。其中，工艺人员登陆编辑子界面后可进行工艺配方的建立、编辑、打开和保存等操作。不同工艺单元的配方对应各自不同的编辑子界面及表格，工艺人员在编辑表格中完成参数的输入和修改。工艺人员登陆下载子界面后可进行工艺配方的下载操作。

在一些示例中，所述工艺配方文档为XML格式的文档，且全部保存在上位机中系统指定的文件夹下，方便工艺人员随时调取与修改工艺配方文档内容。

在一些示例中，所述上位机对所述工艺配方文档时，将所述工艺配方文档解析为DOM文档对象模型，并从所述DOM文档对象模型中提取元素、属性和注释，以根据所述元素和属性得到所述工艺配方内容，并对所述工艺配方内容进行相应的处理。

在一些示例中，所述客户端以同步的方式向所述OPC服务器进行写数据，以完成工艺配方的下载。

在一些示例中，所述上位机和所述下位机组之间通过以太网物理连接。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。