[发明专利]一种剥离设备的剥离能力的评定方法及评定系统有效
申请号: | 201310150238.8 | 申请日: | 2013-04-26 |
公开(公告)号: | CN103258756A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 刘英伟;陈宁 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 张恺宁 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 剥离 设备 能力 评定 方法 系统 | ||
1.一种剥离设备的剥离能力的评定方法,其特征在于,该方法包括:
利用剥离设备对涂覆有光刻胶的测试块进行光刻胶剥离处理,其中所述测试块上涂覆的光刻胶的固化程度值不同;
对经过剥离处理后的测试块进行剥离效果检测,根据剥离效果检测结果,以及光刻胶固化程度值、剥离能力等级之间的对应关系,确定所述剥离设备的剥离能力等级。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述剥离效果检测包括:
根据所述测试块的光刻胶残留值确定剥离效果等级,其中所述测试块的光刻胶残留值越低对应的剥离效果等级越高;
所述对应关系包括:光刻胶的固化程度值越高,剥离处理后的测试块的光刻胶残留值越低,所述剥离设备对应的剥离能力等级越高。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,确定满足设定的剥离效果等级的测试块,以及所述满足设定的剥离效果等级的测试块对应的光刻胶固化程度值;
将满足设定的剥离效果等级,且光刻胶固化程度值最高的测试块对应的剥离能力等级作为所述剥离设备的剥离能力等级。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对应关系包括:
对于相同的剥离效果等级,光刻胶的固化程度值越高对应的剥离能力等级越高;
对于相同的光刻胶的固化程度值,剥离效果等级越高对应的剥离能力等级越高。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括采用下列方式制作待进行剥离处理的测试块:
在基板上涂覆一层光刻胶,对所述基板上的光刻胶进行曝光和图形化处理,在基板上不同区域形成光刻胶块;
对所述光刻胶块进行不同程度的曝光固化处理,得到光刻胶固化程度值不同的测试块。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,对所述光刻胶块进行不同程度的固化处理,包括:
通过平行的红外光线垂直照射金属板材的光栅,对每个光栅对应的光刻胶块进行烘干,其中所述金属板材上的每个光栅的光栅常数不同,从而获得不同固化程度值的光刻胶块,每个光刻胶块对应的基板区域及该区域内的光刻胶构成一个测试块。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述金属板材的光栅常数在10μm~90μm之间。
8.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述金属板材与所述玻璃基板之间的距离为100μm~300μm。
9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,该方法还包括:
当所述剥离设备工作设定时长后,确定所述剥离设备的剥离能力等级比所述设定时长之前的剥离能力等级低时,对所述剥离设备进行校正。
10.一种剥离设备的剥离能力评定系统,其特征在于,该系统包括:光刻胶剥离模块和评定模块;
所述光刻胶剥离模块,用于利用剥离设备对涂覆有光刻胶的测试块进行光刻胶剥离处理,其中所述测试块上涂覆的光刻胶的固化程度值不同;
所述评定模块,用于对经过剥离处理后的测试块进行剥离效果检测;根据剥离效果检测结果,以及光刻胶固化程度值、剥离能力等级之间的对应关系,确定所述剥离设备的剥离能力等级。
11.如权利要求10所述的系统,其特征在于,该系统还包括:光刻胶固化装置,用于在基板上涂覆一层光刻胶,对所述基板上的光刻胶进行曝光和图形化处理,在基板上不同区域形成光刻胶块,对所述光刻胶块进行不同程度的曝光固化处理,得到光刻胶固化程度值不同的测试块。
12.如权利要求11所述的系统,其特征在于,所述光刻胶固化装置具体用于:
通过平行的红外光线垂直照射金属板材的光栅,对每个光栅对应的光刻胶块进行烘干,其中所述金属板材上的每个光栅的光栅常数不同,从而获得不同固化程度值的光刻胶块,每个光刻胶块对应的基板区域及该区域内的光刻胶构成一个测试块。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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