[发明专利]光掩模坯料及其制造方法

权利要求书

1.一种光掩模坯料，其中在对曝光的光透明的衬底上形成有包含至少一种功能性透明膜的层压体，其中：

在如下步骤中的任一个步骤之后，对所述层压体进行至少一次热处理：沉积所述功能性透明膜的步骤；在沉积所述功能性透明膜之后进行至少一次闪光照射处理的步骤；以及在其上形成与所述功能性透明膜不同的功能性膜的层以形成所述层压体的步骤。

2.根据权利要求1所述的光掩模坯料，其中，在所述光掩模坯料中，在光掩模制造工序结束后，所述功能性透明膜的翘曲变化量在±0.05μm内。

3.根据权利要求2所述的光掩模坯料，其中所述翘曲变化量是在其中以所述光掩模坯料的主面中央为中心且一边为132mm的矩形区域内的测量值。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的光掩模坯料，其中所述功能性透明膜包含半色调相移膜。

5.一种制造光掩模坯料的方法，在所述光掩模坯料中在对曝光的光透明的衬底上形成有包含至少一种功能性透明膜的层压体，所述方法包括：

在衬底上沉积至少一种功能性透明膜的步骤；

在其中所述功能性透明膜在所述衬底上的翘曲量绝对值为0.1μm以上的情况下进行闪光照射处理的步骤；以及

在其上形成与所述功能性透明膜不同的功能性膜的层以形成层压体的步骤；

所述方法还包括在所述三个步骤中的任一个步骤之后进行至少一次热处理的步骤。

6.根据权利要求5所述的制造光掩模坯料的方法，其中在260℃至320℃的温度范围内将所述热处理进行四小时以上。

7.根据权利要求5或6所述的制造光掩模坯料的方法，其中在所述进行闪光照射处理的步骤中，单次照射的时间为一秒以下。

8.根据权利要求5或6所述的制造光掩模坯料的方法，其中进行所述热处理和所述闪光照射处理的条件使得在进行所述热处理的步骤和进行所述闪光照射处理的步骤之后所述功能性透明膜在所述衬底上的翘曲量在±0.05μm内。

9.根据权利要求5或6所述的制造光掩模坯料的方法，其中包含所述功能性透明膜的所述层压体在所述衬底上的翘曲量是在其中以所述光掩模坯料的主面中央为中心且一边为132mm的矩形区域内的测量值。

10.根据权利要求5或6所述的制造光掩模坯料的方法，其中所述功能性透明膜包含半色调相移膜。