[发明专利]电润湿显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种制造电润湿显示装置的方法，所述方法包括下述步骤：

在基体基板上形成壁，其中，壁限定像素区域；

形成覆盖基体基板的顶表面和壁的侧表面且暴露壁的顶表面的疏水层；

在像素区域中形成电润湿层；以及

形成被构造为控制电润湿层的电子器件；

其中，形成疏水层的步骤包括：

在形成有壁的基体基板上形成预疏水层；

使壁收缩，以使预疏水层的一部分与壁分离；以及

去除分离的预疏水层，以使壁的顶表面暴露。

2.如权利要求1所述的方法，其中，通过在第一温度下加热壁来执行使壁收缩的步骤。

3.如权利要求2所述的方法，其中，第一温度在115℃至160℃的范围内。

4.如权利要求2所述的方法，所述方法还包括：

向预疏水层照射UV线，以在预疏水层中形成裂纹。

5.如权利要求4所述的方法，其中，UV线具有170nm或更小的波长。

6.如权利要求2所述的方法，其中，形成壁的步骤包括：

在基体基板上涂覆有机材料，以形成有机层；

将有机层图案化以形成壁；以及

在第二温度下预焙烧壁。

7.如权利要求2所述的方法，所述方法还包括：

在去除分离的预疏水层后将UV线照射到预疏水层的残余物。

8.一种制造电润湿显示装置的方法，所述方法包括下述步骤：

在基体基板上形成壁，其中，壁限定像素区域；

形成覆盖基体基板的顶表面和壁的侧表面且暴露壁的顶表面的疏水层；

在像素区域中形成电润湿层；以及

形成被构造为控制电润湿层的电子器件；

形成壁的步骤包括：

在基体基板上形成有机材料，以形成有机层；

在有机层上形成牺牲图案；以及

利用牺牲图案作为掩模将有机层图案化，以形成壁。

9.如权利要求8所述的方法，其中，通过干蚀刻有机层来形成壁。

10.如权利要求8所述的方法，其中，牺牲图案包括负型光致抗蚀剂、正型光致抗蚀剂和金属中的至少一种。

11.如权利要求10所述的方法，其中，牺牲图案包括负型光致抗蚀剂或金属，其中，牺牲图案的顶表面具有比壁的宽度大的宽度，牺牲图案的底表面具有与壁的宽度相同的宽度。

12.如权利要求10所述的方法，其中，牺牲图案包括正型光致抗蚀剂，其中，牺牲图案的底表面具有比壁的宽度大的宽度，牺牲图案的顶表面具有比壁的宽度小的宽度。

13.如权利要求8所述的方法，其中，形成疏水层的步骤包括：

在形成有牺牲图案的基体基板上形成预疏水层；以及

剥离牺牲图案和牺牲图案上的预疏水层，以使壁的顶表面暴露。

14.一种制造电润湿显示装置的方法，所述方法包括下述步骤：

在基体基板上形成壁，其中，壁限定像素区域；

形成覆盖基体基板的顶表面和壁的侧表面且暴露壁的顶表面的疏水层；

在像素区域中形成电润湿层；以及

形成被构造为控制电润湿层的电子器件；

其中，形成壁的步骤包括：

在基体基板上涂覆有机材料，以形成有机层；

在有机层上形成牺牲层；以及

将有机层和牺牲层图案化，以形成壁。

15.如权利要求14所述的方法，其中，有机层和牺牲层中的至少一种包含负型光致抗蚀剂。

16.如权利要求1、8或14所述的方法，其中，形成电子器件的步骤包括：

在基体基板上形成开关器件；

形成与开关器件连接的第一电极；以及

形成与第一电极分离的第二电极。

17.如权利要求16所述的方法，其中，第一电极设置在基体基板上。

18.如权利要求16所述的方法，所述方法还包括形成面对基体基板的对向基板，其中，第二电极形成在对向基板上。