[发明专利]全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识及制备工艺无效
申请号: | 201310160176.9 | 申请日: | 2013-05-03 |
公开(公告)号: | CN103325301A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 鲁琴;牟靖文;杨兴国;熊丽端 | 申请(专利权)人: | 武汉华工图像技术开发有限公司 |
主分类号: | G09F3/02 | 分类号: | G09F3/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 430223 湖北省武汉市东湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 全息 微缩 加密 定位 光学 可变 规则 揭露 防伪 标识 制备 工艺 | ||
1.全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识,包括依次叠加的基膜、光学可变信息层、保护油墨、规则揭露层、全息模压层、真空镀铝层和不干胶层,基膜为PET薄膜,其特征在于:光学可变信息层为光致变色防伪涂层或是温致变色防伪涂层。
2.根据权利要求1所述的全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识,其特征在于:PET薄膜厚度20~50μm。
3.根据权利要求1所述的全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识,其特征在于:规则揭露层的油墨为具有离型和成像功能一体的油墨。
4.全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识制备工艺,其特征在于包括以下步骤:
①、在基膜上涂布光学可变信息层;
②、涂布保护油墨;
③、涂布规则揭露层及定位标,涂布机采用双色凹版辊涂涂布机,第一色涂布规则揭露层图案,第二色进行定位套印,定位标在规则揭露层图案两侧;
④、涂布全息模压层;
⑤、进行真空镀铝,形成真空镀铝层;
⑥、分切,根据产品规格分切成需要的大小,并进行消除静电处理;
⑦、采用带有微缩加密及定位光标的电铸版进行模压,将全息信息复制到全息模压层上;
⑧、涂布不干胶,并复合硅油纸;
⑨、模切,分切,根据需要的规格模切成成品。
5.根据权利要求4所述的全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识制备工艺,其特征在于:在基膜上涂布光学可变信息层时,涂布机采用凹版涂布机,网纹辊采用规定图案的电雕辊,油墨采用含有光学变色或温度变色信息纳米粒子的油墨,在普通环境下该油墨为透明颜色,涂布于PET基膜电晕面上,电晕值大于42达因以上,干涂量为0.4~0.8g/m2,烘干固化。
6.根据权利要求4所述的全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识制备工艺,其特征在于:涂布保护油墨时,网纹辊采用陶瓷辊,该油墨为透明,干涂量为0.4~0.8g/m2,烘干固化。
7.根据权利要求4所述的全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识制备工艺,其特征在于:涂布规则揭露层及定位标时,涂布机采用双色凹版辊涂涂布机,第一色涂布规则揭露图案,网纹辊采用客户指定图案的电雕辊,干涂量为0.10~0.4g/m2,烘干固化,第二色进行定位套印,网纹辊采用指定图案的电雕辊,在规则揭露图案两侧指定区域印刷定位标,其颜色可透过PET膜面易于肉眼识别、测量,干涂量为0.6~1.0g/m2,烘干固化。
8.根据权利要求4所述的全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识制备工艺,其特征在于:涂布全息模压层时,网纹辊采用陶瓷辊,干涂量在为1.2~1.8g/m2。
9.根据权利要求4所述的全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识制备工艺,其特征在于:进行真空镀铝时,真空镀铝层厚度为15~60nm。
10.根据权利要求4所述的全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识制备工艺,其特征在于:采用带有微缩加密及定位光标的电铸版进行模压,将全息信息复制到全息模压层上,保证模压光标与定位标的横向误差和纵向误差分别小于0.2mm。
11.根据权利要求4所述的全息微缩加密定位光学可变规则揭露防伪标识制备工艺,其特征在于:采用带有微缩加密及定位光标的电铸版进行模压时,电铸版为含有全息定位及微缩加密信息的电铸版,其信息及图案为客户指定。
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