[发明专利]等离子显示屏制造过程数据挖掘系统有效
申请号: | 201310161147.4 | 申请日: | 2013-05-04 |
公开(公告)号: | CN103268329A | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 李涛;郑理;王鹏年;贾建军;虞尚友;雷鸣;段冰;顾尚林;王军;张春 | 申请(专利权)人: | 四川虹欧显示器件有限公司 |
主分类号: | G06F17/30 | 分类号: | G06F17/30 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 邓世燕 |
地址: | 621000 四川省绵阳市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 显示屏 制造 过程 数据 挖掘 系统 | ||
1.一种等离子显示屏制造过程数据挖掘系统,其特征在于:包括数据探索模块、数据挖掘模块、分布特性量化模块、结果显示存储模块和系统调度管理模块,其中:
数据探索模块:对大数据进行预处理,建立和导出数据立方;
数据挖掘模块:采用特征抽取方法、关联分析方法和回归分析方法,对数据探索模块导出的数据立方进行数据挖掘;
分布特性量化模块:根据用户输入的数据集和统计指标,按工序以及时间计算最大值、最小值、均值、方差、偏度、峰度,制作数据分布图;并将计算结果按统计指标进行排序,并将排序结果进行显示和保存;
结果显示存储模块:对各模块处理的结果进行显示和存储;
系统调度管理模块:根据用户输入的指示,调用各模块,实现对各模块的调度管理。
2.根据权利要求1所述的等离子显示屏制造过程数据挖掘系统,其特征在于:所述数据探索模块对大数据进行预处理的方法如下:
步骤一、根据已有数据库表确定维度;
步骤二、确定建立数据立方的测度;
步骤三、建立数据立方:在各个维度及其不同层级上对测度进行计算并关联到当前的维度和相应层级;
步骤四、基于数据立方做上卷和下钻操作;
步骤五、根据数据各个维度层级上的测度分布,导出数据立方。
3.根据权利要求1所述的等离子显示屏制造过程数据挖掘系统,其特征在于:所述数据挖掘模块的特征抽取方法为:
步骤一、根据用户提供的全工序生产数据的日期,构建全工序生产工艺的生产数据的数据库;
步骤二、对全工序中所有工序的数据内容做串联处理,并按照等离子屏的等级或者不良类型进行划分,将属于特定等级或者特定不良类型的等离子屏分为一组,其它等离子屏分为一组,然后将各组间的等离子屏所对应的生产工艺中的参数进行对齐,形成到全工序数据;
步骤三、对步骤二形成的全工序数据进行缺失值处理和归一化处理;
步骤四、筛选出能最大化包括信息增益、增益比、最小化冗余度和最大化相关度在内的重要评价指标的三组重要参数列表,
步骤五、将步骤四得到的三组重要参数列表进行整合,获取出一组统一的重要参数列表,其中包括了在三组重要特征列表中出现在至少两组中的参数。
4.根据权利要求1所述的等离子显示屏制造过程数据挖掘系统,其特征在于:所述数据挖掘模块的关联分析方法为:
步骤一,对等离子屏生产过程数据进行二元化处理,产生一个数据集合;
步骤二,确定所有满足最小支持度的参数的取值状态组合;
步骤三,从最小支持度的参数的取值状态组合中确定关联的参数取值状态。
5.根据权利要求1所述的等离子显示屏制造过程数据挖掘系统,其特征在于:所述数据挖掘模块的回归分析方法为:
步骤一、建立等离子显示屏制造过程中重要动力参数与良率的回归模型:
(1)针对温度、湿度和压力三种类型的动力参数对不同时间段的生产记录进行切分:
1)确定产品在整个生产过程中经过各台设备的具体时间;
2)统计并记录在设定时间段内经过各台设备的产品数量和对应产品的最终品质等级;
3)对各台设备的环境参数信息进行采样并记录,并以此采样频率作为基本采样频率;
4)在基于基本采样频率的基础上在不同时间粒度内将产品的最终品质等级与各台设备的环境参数对齐;
(2)在回归模型中定义温度均值、湿度均值、压力均值、温度方差、湿度方差和压力方差六种影响因素;
(3)根据历史观测数据确定各影响因素在不同采样时刻的取值;
(4)采用线性回归分析方法求得各个影响因素上的回归系数;
(5)针对不同的影响因素,对回归系数进行归一化处理;
步骤二、根据归一化处理后的回归系数制定出各个动力参数的调控策略:当回归系数小于0时,该回归系数对应的动力参数与良率为负相关,需将其调小;当回归系数大于0时,该回归系数对应的动力参数与良率为正相关,需将其调大。
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