[发明专利]等离子显示屏制造过程数据挖掘系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种数据处理技术，尤其是涉及一种等离子显示屏制造过程数据挖掘系统。 

背景技术

等离子显示屏制造过程因设计、工艺、设备、环境、物料、检测和员工素质以及管理等各种要素交织、叠加，使产品良率和生产效率改善难度很大。在经历前几年爬坡量产过程中的试验设计品质管控、新材料新工艺提升良率后，现阶段的量产质量控制靠意识与累积经验已经不能够再支撑更进一步的提升了。必须要用新方法介入以更进一步提升良率，从而降低生产成本。 

等离子显示屏制造过程量产过程中，单台等离子显示屏产品生产过程设备参数纳入MES系统存储达到1.2万个，每天数据量10G以上，涉及到的参数超过9000个，在数量，维度和数据产生速度上具有海量大数据特征。迫切需要发明创新一种等离子显示屏制造过程数据挖掘系统。 

发明内容

为了克服现有技术方法的上述缺点，本发明提供了一种等离子显示屏制造过程数据挖掘系统。 

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种等离子显示屏制造过程数据挖掘系统，包括数据探索模块、数据挖掘模块、分布特性量化模块、结果显示存储模块和系统调度管理模块，其中： 

数据探索模块：对大数据进行预处理，建立和导出数据立方； 

数据挖掘模块：采用特征抽取方法、关联分析方法和回归分析方法，对数据探索模块导出的数据立方进行数据挖掘； 

分布特性量化模块：根据用户输入的数据集和统计指标，按工序以及时间计算最大值、最小值、均值、方差、偏度、峰度，制作数据分布图；并将计算结果按统计指标进行排序，并将排序结果进行显示和保存； 

结果显示存储模块：对各模块处理的结果进行显示和存储； 

系统调度管理模块：根据用户输入的指示，调用各模块，实现对各模块的调度管理。 

与现有技术相比，本发明的积极效果是：本系统不但能有效挖掘出等离子显示屏制造过程制造工序BR,PH设备环境参数与良率的关系；还能挖掘出等离子显示屏制造过程制造全工序数据（LT）中与主要工序不良类型相关的重要参数；以及挖掘出等离子显示屏制造过程制造BR工序中不良代码00000R与点灯不良类型的关系。 

附图说明

本发明将通过例子并参照附图的方式说明，其中： 

图1是本发明的系统结构图； 

图2是本发明的系统调度管理模块的工作流程图。 

具体实施方式

一种等离子显示屏制造过程数据挖掘系统，如图1所示，包括：数据探索模块、数据挖掘模块、分布特性量化模块、结果显示存储模块和系统调度管理模块。各个模块实现的功能如下： 

一、数据探索模块：对大数据进行预处理,使分析人员能够快速地对数据状态有一个宏观上的理解,并能够迅速找到数据突破口，具体方法如下：： 

步骤一,根据已有数据库表确定维度； 

步骤二,确定建立数据立方的测度； 

步骤三,建立数据立方：在各个维度及其不同层级上对测度进行计算并关联到当前的维度和相应层级； 

步骤四,基于数据立方做上卷和下钻操作：上卷是在对维度进行更大粒度上的展示，如从天上卷到月；下钻是对维度进行更下粒度下的展示，如从三楼下钻到三楼A区； 

步骤五,根据数据各个维度层级上的测度分布,导出在选定维度下各个层级上都有测度统计的数据立方； 

二、数据挖掘模块：采用特征抽取方法、关联分析方法和回归分析方法，对数据探索模块导出的数据立方进行数据挖掘，具体方法如下： 

（一）特征抽取方法： 

步骤一、根据用户提供的全工序生产数据的日期，构建全工序生产工艺的生产数据的数据库； 

步骤二、对全工序中所有工序的数据内容做串联处理，并按照等离子屏的等级或者不良类型进行划分，将属于特定等级或者特定不良类型的等离子屏分为一组，其它等离子屏分为一组，然后将各组间的等离子屏所对应的生产工艺中的参数进行对齐，形成到全工序数据； 

步骤三、对步骤二形成的全工序数据进行缺失值处理和归一化处理： 

所述缺失值处理是指：对于缺失值，按照其它等离子屏的相同参数的观测值的平均值进行填充，目标是使该填充的缺失值对之后的分析框架不产生影响； 

缺失值处理后，对所有参数上的观测值进行归一化处理，即将该参数在不同等离子屏上的观测值统一到0均值和单位方差这个区间内并同时保证最初不同屏上该观测值的相对大小不变，举例说明如下：