[发明专利]一种增强可见光光电响应的锰掺杂二氧化钛薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种增强可见光光电响应的锰掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于制备步骤如下： 

1）、清洗衬底；将衬底放在丙酮、无水乙醇、去离子水中依次超声15min，并烘干，沉积薄膜前，对衬底进行反溅清洗15min；

2）、安装靶材；将纯度为99.999%的Ti靶安装于磁控溅射系统的直流靶位， 纯度为99.999%的Mn靶安装于磁控溅射系统的射频靶位，调节靶与衬底的距离为10～65mm；

3）、打开泵抽系统，当系统真空抽至1×10^-5Pa后，将衬底加热至温度200～550℃，向腔室通入20sccm高纯度99.9999%的氩气和8～15sccm高纯度99.9999%的氧气，控制腔室压强为5～10mtorr，对靶材进行辉光清洗；

4）、清洗完成后，调节直流Ti靶的功率为300～380W，射频Mn靶的功率为0～105W，持续溅射3～10小时；

5）、沉积完成后，随炉冷却，从真空室将样品取出。

2.根据权利要求1所述的一种增强可见光光电响应的的锰掺杂氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于所述腔室气压调节至5mtorr，调节直流Ti靶的功率为378W，射频Mn靶的功率为105W，持续溅射3小时。

3.根据权利要求1或2所述的一种增强可见光光电响应的的锰掺杂氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于所述的衬底是硅片，或者是石英片，或者是FTO，或者是ITO。