[发明专利]排气加热装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种对自处理装置排出的排气进行加热而使其无害化的排气加热装置。

背景技术

在使用清洁处理、采用了CVD（Chemical Vapor Deposition：化学气相沉积）法、ALD（Atomic Layer Deposition：原子层沉积）法的成膜处理等的气体来进行规定处理的气体处理装置中，大多使用有机金属（MO）气体、臭氧气体、硅烷类气体等有害气体，由于不能将上述气体在未反应的情况下就排出到环境中，因此，在排气配管上使用用于加热排气的排气加热装置而使排气热分解以使排气无害化。

作为这样的排气加热装置，公知有在排气配管的外侧配置有加热器的套型排气加热装置。另外，也公知有在排气流路中配置有加热器的排气加热装置（例如专利文献1、2）。

专利文献1：日本特开2001-355823号公报

专利文献2：日本特开2004-162963号公报

通常，排气中所含有的未反应气体的分解温度是300℃以上的较高的温度，因此需要采取对排气加热装置主体进行充分的绝热以防止引起烧伤等事故那样的对策。另外，当使这样的高温排气流到真空泵中时，真空泵有可能破损，因此需要将自排气加热装置起到真空泵为止的配管加长等用于冷却排气的机构。由于需要这样进行绝热和冷却，因此这种排气加热装置需要较大的设置空间。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而做成的，其课题是提供一种不需要较大的设置空间的紧凑型的排气加热装置。

为了解决上述课题，本发明的第1技术方案提供一种排气加热装置，其用于对含有自气体处理装置的处理容器排出的未反应的处理气体的排气进行加热，该气体处理装置利用处理气体进行规定处理，该排气加热装置的特征在于，该排气加热装置包括：加热容器，其用于对排气进行加热；内部壁，其用于将上述加热容器内划分为中央的第1排气流通空间和第2排气流通空间，该第2排气流通空间面对上述加热容器的外周壁并围绕上述第1排气流通空间；气体导入部，其用于向上述第1气体流通空间导入排气；气体排出部，其用于将排气自上述第2气体流通空间排出；连通部，其用于将上述第1气体流通空间与上述第2气体流通空间连通；以及加热部件，其设置于上述第1气体流通空间内，用于对在上述第1气体流通空间中流动的排气进行加热。

在上述第1技术方案中，能够设为：上述第2气体流通空间利用上述内部壁与上述第1气体流通空间绝热，在上述第2气体流通空间中流动的气体借助上述加热容器的外周壁进行散热。

另外，能够设为以下结构：上述加热容器的外周壁呈筒状，上述外周壁和上述内部壁形成为同轴状，上述外周壁的两端部被第1盖构件和第2盖构件封堵。在该情况下，能够设为在上述第1盖构件上设有上述气体导入部的结构。另外，能够设为以下结构：上述第1气体流通空间形成为柱状，上述第2气体流通空间呈筒状形成在上述第1气体流通空间的周围，上述加热部件具有以与上述第1气体流通空间的长边方向相对应的方式形成的加热器。能够设为以下结构：上述加热器借助绝热构件安装在上述第2盖构件上，在安装上述第2盖构件时，上述加热器插入到上述第1气体流通空间内。

而且，能够设为以下结构：上述连通部设于上述内部壁中的、与上述气体导入部相反的一侧且不与上述气体排出部相对的位置。另外，能够设为以下结构：上述连通部位于与上述气体导入部相反的一侧，且沿着上述内部壁的整周设置。

另外，能够设为以下结构：该排气加热装置还包括多个挡板，该多个挡板配置于上述第1气体流通空间中，用于使气流弯曲而延长气体流路长度。在该情况下，既可以是如下的结构：上述挡板固定于上述内部壁的内表面，也可以是如下的结构：上述挡板安装在框架上而构成装卸式的阻挡单元，上述阻挡单元被插入到上述第1气体流通空间内。并且，上述挡板也可以固定于加热器的加热部。