[发明专利]一种光反射板及其制备方法

权利要求书

1.一种光反射板，由内层和外层复合构成，其特征在于，所述内层由B材料层构成，所述外层由A材料层单独构成或者由A材料层与C材料层共同构成；其中，所述A材料层的原料组分包括基体树脂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂；

所述B材料层的原料组分包括基体树脂、钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂和分散剂；

所述C材料层的原料组分包括基体树脂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂。

2.如权利要求1所述的光反射板，其特征在于，所述A材料层的原料组分按重量份如下：基体树脂85～98份，抗静电剂0.4～1.2份，抗氧剂0.1～0.5份，光稳定剂0.5～3份，分散剂0.5～5份；

所述B材料层的原料组分按重量份如下：基体树脂85～98份，钛白粉2～15份，抗氧剂0.1～0.5份，光稳定剂0.5～3份，荧光增白剂0.01～0.15份，分散剂0.5～5份；

所述C材料层的原料组分按重量份如下：基体树脂85～98份，抗氧剂0.1～0.5份，光稳定剂0.5～3份，分散剂0.5～5份。

3.如权利要求1所述的光反射板，其特征在于，所述光反射板为由A材料层和B材料层组成的三层复合光反射板；所述三层复合光反射板的内层的数量为一个，由B材料层构成；所述三层复合光反射板的外层的数量为两个，均由A材料层构成。

4.如权利要求1所述的光反射板，其特征在于，所述光反射板为由A材料层、B材料层和C材料层组成的三层复合光反射板；所述三层复合光反射板的内层的数量为一个，由B材料层构成；所述三层复合光反射板的外层的数量为两个，分别由A材料层和C材料层各构成其中一个。

5.如权利要求1、2、3或4所述的光反射板，其特征在于，在所述光反射板总厚度中，所述内层的厚度所占的比例为65%～90%，所述外层中A材料层的厚度所占的比例为10%～35%。

6.如权利要求5所述的光反射板，其特征在于，在所述光反射板的外表面上设有微结构，所述微结构的特征尺寸为0.1微米～1000微米。

7.一种制备如权利要求1至6中任一项所述的光反射板的方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）各材料层母粒的制备

1.1按A材料层的重量配比称取基体树脂、抗静电剂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒，得A材料层母粒；

1.2按B材料层的重量配比称取基体树脂、钛白粉、抗氧剂、光稳定剂、荧光增白剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒，得B材料层母粒；

1.3按C材料层的重量配比称取基体树脂、抗氧剂、光稳定剂和分散剂，混合均匀后，于双螺杆挤出机中熔融造粒,得C材料层母粒；

（2）光反射板的制备

2.1将所述步骤（1）中制得的A材料层母粒和B材料层母粒分别加入到单螺杆挤出机中，通过共挤出成型，制得初成型光反射板；或者，将所述步骤（1）中制得的A材料层母粒、B材料层母粒和C材料层母粒分别加入到单螺杆挤出机中，通过共挤出成型，制得成型光反射板。

8.如权利要求7所述的光反射板的制备方法，其特征在于，在所述步骤（2）中，还包括步骤2.2，将所述步骤（2.1）中制得的初成型光反射板通过微结构辊压印机进行压印，得表面带有微结构的光反射板。

9.如权利要求8所述的光反射板的制备方法，其特征在于：在所述步骤（2.2）中，所述微结构辊压印的辊压温度为30℃～150℃，驱动辊的驱动辊压速度为2m/min～10m/min。

10.如权利要求7、8或9所述的光反射板的制备方法，其特征在于：在所述步骤（1）中，所述各双螺杆挤出机的加工温度控制在165℃～285℃，所述各双螺杆挤出机的螺杆转速为100r/min～400r/min；

在所述步骤（2.1）中，所述各单螺杆挤出机的加工各段温度均设置为：加料段温度为165℃～240℃，熔融段温度为180℃～280℃，计量段温度为195℃～285℃，机头温度为200℃～290℃；

在所述步骤（2.1）中，所述各单螺杆挤出机的螺杆转速为10r/min～70r/min。