[发明专利]薄膜沉积设备以及用其沉积薄膜的方法有效
| 申请号： | 201310181188.X | 申请日： | 2013-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN103805941B | 公开（公告）日： | 2019-01-11 |
| 发明（设计）人： | 韩政洹 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;姚志远 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 设备 以及 方法 | ||
1.一种薄膜沉积设备，包括：
腔体，具有衬底和安装在所述衬底上的掩模；
沉积源，安装在所述腔体内，向所述衬底供应沉积气体；以及
掩模测量单元，安装在所述腔体内，所述掩模测量单元移动并跨越所述掩模以用于测量所述腔体内的所述掩模的状态。
2.如权利要求1所述的设备，其中，所述掩模测量单元包括单个测量装置。
3.如权利要求2所述的设备，其中，所述单个测量装置测量所述掩模的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。
4.如权利要求1所述的设备，其中，所述掩模测量单元包括多个测量装置。
5.如权利要求4所述的设备，其中，所述多个测量装置中的每一个分别测量形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度中的至少一个。
6.如权利要求4所述的设备，其中，
所述掩模被分为与所述多个测量装置的数量相对应的多个区域；以及
所述多个测量装置中的每一个测量所述掩模的多个区域中的一个区域中的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。
7.一种沉积薄膜的方法，包括：
将衬底和掩模安装在包括沉积源和掩模测量单元的腔体内，所述掩膜安装在所述衬底上；
利用所述掩模测量单元移动并跨越所述掩模来测量所述腔体内的所述掩模的状态；以及
根据测量结果在必要时更换所述掩模。
8.如权利要求7所述的方法，其中，所述掩模测量单元包括单个测量装置。
9.如权利要求8所述的方法，其中，利用所述掩模测量单元移动并跨越所述掩模来测量所述掩模的状态包括：
利用所述单个掩模测量装置测量所述掩模的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。
10.如权利要求7所述的方法，其中，所述掩模测量单元包括多个测量装置。
11.如权利要求10所述的方法，其中，利用所述掩模测量单元移动并跨越所述掩模来测量所述掩模的状态包括：
所述多个测量装置中的每一个分别测量所述掩模的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度中的至少一个。
12.如权利要求10所述的方法，其中，
所述掩模被分为与所述多个测量装置的数量相对应的多个区域；以及
利用所述掩模测量单元移动并跨越所述掩模来测量所述掩模的状态包括：
所述多个测量装置中的每一个分别测量所述掩模的多个区域中的一个区域中的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。
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