[发明专利]薄膜沉积设备以及用其沉积薄膜的方法

说明书

一种薄膜沉积设备和利用该薄膜沉积设备沉积薄膜的方法。该薄膜沉积设备包括：腔体，具有衬底和安装在衬底上的掩模；沉积源，向衬底供应沉积气体；以及掩模测量单元，测量腔体内的掩模的状态。

相关申请的引用

本申请要求于2012年11月5日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请10-2012-0124473的优先权，其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本公开的实施方式涉及薄膜沉积设备以及用该薄膜沉积设备沉积薄膜的方法。

背景技术

在薄膜成形（例如，有机发光二极管显示器（OLED）的薄膜的成形）过程中，沉积技术可包括生成沉积源的蒸汽、以及将该蒸汽沉积在衬底的表面上。例如，沉积程序可包括将掩模放置在衬底上并使得来自沉积源的蒸汽通过掩模上的孔，从而在衬底上形成具有期望图案的薄膜。

发明内容

本发明的实施方式提供一种具有改进结构以直接且快速地检测掩模上出现的缺陷的薄膜测量设备以及利用该薄膜测量设备沉积薄膜的方法。

根据本发明的一个实施方式，提供一种薄膜沉积设备，包括：腔体，具有衬底和安装在衬底上的掩模；沉积源，向衬底供应沉积气体；以及掩模测量单元，测量腔体内的掩模的状态。

薄膜测量单元可包括单个测量装置，以测量掩模的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。

掩模测量单元可包括多个测量装置。多个测量装置中的每一个被分配为测量掩模的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度中的不同因素。

掩模可被分为与多个测量装置的数量对应的多个区域。因此，多个测量装置中的每一个可被分配多个区域中的一个区域，并针对掩模的所分配的区域测量形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。

根据本发明另一个方面，提供一种沉积薄膜的方法，该方法包括：将衬底和掩模安装在包括沉积源和掩模测量单元的腔体内；利用掩模测量单元测量掩模的状态；以及根据测量结果在必要时更换掩模。

薄膜测量单元可包括单个测量装置，以测量掩模的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。

掩模测量单元可包括多个测量装置。多个测量装置中的每一个测量被分配给其的形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度中的不同因素。

所述掩模被分为与多个测量装置的数量对应的多个区域。因此，多个测量装置中的每一个可被分配多个区域中的一个区域，并针对掩模的所分配的区域测量形状精确度、孔尺寸、孔均匀度、污染水平以及定位精度。

根据本发明的实施方式的薄膜沉积设备以及利用该薄膜沉积设备沉积薄膜的方法能够提前且直接测量掩模上的缺陷，因而促使有缺陷的掩模的更换。因此，可减少之后发生的缺陷，并可显著提高生产效率。

附图说明

通过参照附图详细描述示例性实施方式，特征对本领域技术人员将更加显而易见，在附图中：

图1A和图1B示出了根据实施方式的薄膜沉积设备的构造；

图2A和图2B示出了根据另一个实施方式的薄膜沉积设备的构造；

图3A和图3B示出了根据另一个实施方式的薄膜沉积设备的构造。

具体实施方式

以下将参照附图详细描述实施方式。

首先，参照图1A和图1B描述根据实施方式的薄膜沉积设备100。