[发明专利]X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法

权利要求书

1.一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，在对X荧光光谱仪分光室内表面的可视油污、水汽进行清理擦除后实施，其特征在于包括以下步骤：对分光室进行加温烘烤使残留的油污水分挥发出来；将分子筛置入分子筛储存盒并使分子筛储存盒进入分光室对挥发出来的油污水分进行吸附；进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽；使各分光器轮流交替真空泄漏,通过脉冲负压吹扫气流进行清除；以及使通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽排出，以完成分光室内污染的彻底清除。

2.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，对分光室进行加温烘烤是开启X射线并维持所要求功率的热辐射和分光系统恒温加热。

3.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，所述分子筛储存盒包括上盖和容器主体，所述分子筛储存盒的外形符合X荧光光谱仪样品系统尺寸，并且分子筛储存盒上下四周均有压力释放孔。

4.根据权利要求3所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，在所述分子筛储存盒的上盖安装有小于分子筛颗粒目数的金属网罩。

5.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，所述对挥发出来的油污水分进行吸附的步骤包括将装有分子筛的储存盒通过样品搬送系统送入X荧光光谱仪样品室进行真空预抽，以及待到真空度正常后打开分光室光闸，以使储存盒内的分子筛对分光室中残留的油污蒸汽和水汽分子进行有效吸附。

6.根据权利要求6所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，储存盒内的分子筛对分光室中残留的油污蒸汽和水汽分子进行吸附后再由原路退出，以此往复完成吸附作业。

7.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，在分光器的通道上加设有气流泄漏口并加装控制电磁阀，电磁阀通过自封闭快速接头与分光器连接；电磁阀不通电时一直处于关闭状态，使分光室保持真空度；进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽的步骤，是在维持着高真空度的负压状态下；当进行分光室污染清除时，由脉冲信号发生器产生可调节的周期脉冲信号推动放大电路，产生脉冲电压并驱动电磁阀以一定的周期频率开闭，以形成分光室的分光器真空泄漏，以对电磁阀开通周期的调节控制形成脉冲气流，以形成负压脉冲气流通道，从而形成负压脉冲吹扫气流。

8.根据权利要求1所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽是沿着真空管道排出到真空泵外面，以完成分光室内污染的清除。

9.根据权利要求1至8之任一项所述的X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，其特征在于，X荧光光谱仪真空分光室残留油污水汽的清除方法的技术参数设置成：分光系统启动恒温加热功能，使分光室保持35±1℃；X射线功率维持在600W,保持分光室内的热辐射；使用纳X型分子筛进行吸附；分光系统分光室内维持30±2Pa压力的真空泄漏量；电磁阀开闭动作频率为0.2～1Hz。