[发明专利]X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种理化检测装置，具体说有关一种X荧光光谱仪的清洁方法。

背景技术

X荧光光谱仪担负着进厂原料如铁矿石和各类辅料的品位测试、冶炼所需的烧结矿等炉料的成分分析、进行高炉铁水各化学元素的成分分析、各类成品板材镀层厚度的测试，以及承担大量科研项目中试样的测试分析任务，因此X荧光光谱仪是现代冶金企业重要的理化检测仪器设备。

X荧光光谱仪分光系统结构复杂内部形状不规则、涉及部件多，出现油污水汽污染清理困难,作业效率低下针对性差，很难彻底清除，由于油污水汽残留的存在严重影响了分析检测数据的准确性。在维护时虽然能对分光系统内表面可视油污水汽进行常规清理，但在之后很长的一段时间内沉集在分光器犄角旮旯无法解体清理的油污、水汽会逐渐挥发出来，污染样品造成分析检测数据的异常，尤其是硫、磷、硅等元素化学含量分析受影响尤甚。分光系统油污清理效率低、速度慢，且清洗效果不彻底。不可能对大型精密的X射线电子光学系统进行分解清洗，由于缺少系统性和针对性的分光系统油污清理方法，不能有效地指导X荧光光谱仪分光系统的点检维护作业，检修时间长、效果差造成不必要的时间损失，造成分光室的二次污染，增加停机时间降低了仪器运行的有效运行率。

分光室内的油污中硫、磷、硅等元素的含量较高，虽然经过常规清理，但残留在分光室内的剩余油污在X射线热辐射的作用下，挥发出来并污染进入分光室的待测样品，由于这些污染物的干扰使硫、磷、硅等轻元素含量测量不准，如在未彻底进行分光室清理时，测量铁水样品误差极大。

X荧光光谱仪分光系统的X射线管由于老化或其质量缺陷会造成铍窗破裂，引起高压绝缘油进入分光系统，使光谱仪分光室和真空管道内部污染；另外，真空系统中的真空泵在长期运行后，其中的真空泵油也会对真空分光室造成扩散污染。此时X荧光光谱仪就无法正常使用，因此需要对所述的污染进行清除。X射线管的最大输出功率受阳极元素熔点和导热度的限制，阳极产生的热量要用流动的水进行冷却。由于冷却水管的劣化破裂等因素，水汽不可避免进入真空分光室而引起污染。为了防止上述故障引起X荧光光谱仪分光系统的污染，就需要对分光室内表面的油污、水汽进行常规清理擦除后，还需在保证设备的完整性不进行解体的情况下，对分光室内表面残余的油污和水汽高效快速地予以清除。

在发明名称为“真空管道清洁装置及系统”的中国专利申请公开第CN201020210793.7号介绍了一种真空管道清洁装置及系统，其中真空管道清洁装置包括：至少二个清洁杆、至少一个毛刷头以及牵引装置；所述清洁杆之间以配合结构活动连接并构成清洁杆组；所述毛刷头设置在至少一个清洁杆上；所述牵引装置设置在所述清洁杆组的两端。适用于清洁弯曲连接处较多的真空管道，用牵引装置来回拉动清洁杆来清理真空管道。该专利申请涉及机械硬件管道清洁装置，并不涉及X荧光光谱仪分光室内残留油污水汽的清除。

在发明名称为“真空管线清洁分离系统”的中国专利申请公开第CN200780037472.2号介绍了一种真空管线清洁分离系统，其用于从真空排除物中除去液体物质和碎屑以及提供不含污染物的真空返回,利用真空排出管线与输入真空物流诱发的循环旋转的气旋分离液体和碎屑，使液体和碎屑落到底部排出到收集室，而清洁的真空流引向清洁的真空出口孔。该专利申请涉及真空管线清洁分离系统，也并不涉及X荧光光谱仪分光室内残留油污水汽的清除。

发明内容

本发明的目的是提供一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，可高效快速地彻底清除X荧光光谱仪真空分光室内表面残余的油污和水汽，以避免引起X荧光光谱仪分光系统的污染。

本发明的一种X荧光光谱仪真空分光室的残留油污水汽的清除方法，在对X荧光光谱仪分光室内表面的可视油污、水汽进行清理擦除后实施，其特征在于包括以下步骤：对分光室进行加温烘烤使残留的油污水分挥发出来；将分子筛置入分子筛储存盒并使分子筛储存盒进入分光室对挥发出来的油污水分进行吸附；进行X荧光光谱仪分光室负压脉冲气流吹扫油污、水汽；使各分光器轮流交替真空泄漏,通过脉冲负压吹扫气流进行清除；以及使通过脉冲负压吹扫气流吹走的油气、水汽排出，以完成分光室内污染的彻底清除。

其中，对分光室进行加温烘烤是开启X射线并维持一定功率的热辐射和分光系统恒温加热。

其中，所述分子筛储存盒包括上盖和容器主体，所述分子筛储存盒的外形符合X荧光光谱仪样品系统尺寸，并且分子筛储存盒上下四周均有压力释放孔。

其中，在所述分子筛储存盒的上盖安装有小于分子筛颗粒目数的金属网罩。