[发明专利]一种LED晶片切割方法有效
申请号: | 201310187325.0 | 申请日: | 2013-05-20 |
公开(公告)号: | CN103612015A | 公开(公告)日: | 2014-03-05 |
发明(设计)人: | 曾莹;赵鑫;刘为刚;欧阳桃 | 申请(专利权)人: | 湘能华磊光电股份有限公司 |
主分类号: | B23K26/38 | 分类号: | B23K26/38;B23K26/60 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明 |
地址: | 423038 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 led 晶片 切割 方法 | ||
1.一种LED晶片切割方法,包括LED晶片,其特征在于,低功率普通切割激光和隐形切割激光同时应用于同一LED晶片上。
2.根据权利要求1所述的LED晶片切割方法,其特征在于,切割时,先用低功率普通切割激光在晶片上形成一道切割痕;然后,再用隐形切割激光在普通激光切割过的切割痕上进行隐形切割。
3.根据权利要求2所述的LED晶片切割方法,其特征在于,隐形切割的位置与普通切割的痕迹完全重合。
4.根据权利要求3所述的LED晶片切割方法,其特征在于,普通切割激光在晶片上形成的切割痕,深度不大于10μm,宽度不小于8μm。
5.根据权利要求1所述的LED晶片切割方法,其特征在于,低功率普通切割激光波长为355nm或者266nm,隐形切割激光波长为1064nm。
6.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的LED晶片切割方法,其特征在于,LED晶片为蓝宝石衬底的晶片或者蒸镀膜层的晶片。
7.根据权利要求6所述的LED晶片切割方法,其特征在于,蒸镀膜层的晶片为LED晶片的正面或/和背面蒸镀了膜层。
8.根据权利要求7所述的LED晶片切割方法,其特征在于,LED晶片上蒸镀的膜层为布拉格反射层、Au层、Ti层、Ni层或Al层中的至少一种。
9.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的LED晶片切割方法,其特征在于,包括以下步骤:
a、对减薄后的LED晶片进行蒸镀膜层处理。
b、切割LED晶片的正面或者背面;
c、采用低功率切割激光切割深度不超过10μm的切割痕;然后采用隐形切割激光在切割痕进行隐形切割;
d、切割后,贴麦拉膜进行常规裂片,得到样片。
10.根据权利要求9所述的LED晶片切割方法,其特征在于,将普通激光切割器置于隐形切割机中,普通激光头与隐形激光头固定在同一运动轴上。
11.根据权利要求9所述的LED晶片切割方法,其特征在于,设定普通切割激光的功率为0.2W-1.0W,隐形切割激光功率为0.1W-0.5W。
12.根据权利要求9所述的LED晶片切割方法,其特征在于,若应用于晶片的正面切割,在切割前按保护液:水=1:8的比例混合,将混合液均匀涂抹于LED晶片待切割面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湘能华磊光电股份有限公司,未经湘能华磊光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310187325.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种便携式混凝土搅拌机
- 下一篇:可放饰品的水龙头