[发明专利]一种LED晶片切割方法有效

专利信息
申请号: 201310187325.0 申请日: 2013-05-20
公开(公告)号: CN103612015A 公开(公告)日: 2014-03-05
发明(设计)人: 曾莹;赵鑫;刘为刚;欧阳桃 申请(专利权)人: 湘能华磊光电股份有限公司
主分类号: B23K26/38 分类号: B23K26/38;B23K26/60
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明
地址: 423038 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 led 晶片 切割 方法
【权利要求书】:

1.一种LED晶片切割方法,包括LED晶片,其特征在于,低功率普通切割激光和隐形切割激光同时应用于同一LED晶片上。

2.根据权利要求1所述的LED晶片切割方法,其特征在于,切割时,先用低功率普通切割激光在晶片上形成一道切割痕;然后,再用隐形切割激光在普通激光切割过的切割痕上进行隐形切割。

3.根据权利要求2所述的LED晶片切割方法,其特征在于,隐形切割的位置与普通切割的痕迹完全重合。

4.根据权利要求3所述的LED晶片切割方法,其特征在于,普通切割激光在晶片上形成的切割痕,深度不大于10μm,宽度不小于8μm。

5.根据权利要求1所述的LED晶片切割方法,其特征在于,低功率普通切割激光波长为355nm或者266nm,隐形切割激光波长为1064nm。

6.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的LED晶片切割方法,其特征在于,LED晶片为蓝宝石衬底的晶片或者蒸镀膜层的晶片。

7.根据权利要求6所述的LED晶片切割方法,其特征在于,蒸镀膜层的晶片为LED晶片的正面或/和背面蒸镀了膜层。

8.根据权利要求7所述的LED晶片切割方法,其特征在于,LED晶片上蒸镀的膜层为布拉格反射层、Au层、Ti层、Ni层或Al层中的至少一种。

9.根据权利要求1至5中任一权利要求所述的LED晶片切割方法,其特征在于,包括以下步骤:

a、对减薄后的LED晶片进行蒸镀膜层处理。

b、切割LED晶片的正面或者背面;

c、采用低功率切割激光切割深度不超过10μm的切割痕;然后采用隐形切割激光在切割痕进行隐形切割;

d、切割后,贴麦拉膜进行常规裂片,得到样片。

10.根据权利要求9所述的LED晶片切割方法,其特征在于,将普通激光切割器置于隐形切割机中,普通激光头与隐形激光头固定在同一运动轴上。

11.根据权利要求9所述的LED晶片切割方法,其特征在于,设定普通切割激光的功率为0.2W-1.0W,隐形切割激光功率为0.1W-0.5W。

12.根据权利要求9所述的LED晶片切割方法,其特征在于,若应用于晶片的正面切割,在切割前按保护液:水=1:8的比例混合,将混合液均匀涂抹于LED晶片待切割面。

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