[发明专利]有机层沉积组件和设备、有机发光显示设备及其制造方法

权利要求书

1.有机层沉积组件，用于在衬底上沉积有机层，所述有机层沉积组件包括：

沉积源，用于排放沉积材料；

沉积源喷嘴单元，位于所述沉积源的一侧，并且包括多个沉积源喷嘴；以及

构图狭缝片，面对所述沉积源喷嘴单元，并且包括多个构图狭缝和位于所述多个构图狭缝的边缘部分处的一个或多个对准确认图案狭缝，

其中，所述沉积源被配置为在进行沉积过程时排放所述沉积材料以经过所述构图狭缝片并随后排放在所述衬底上。

2.如权利要求1所述的有机层沉积组件，其中，所述构图狭缝片包括：

中间区，位于所述多个构图狭缝中的相邻的构图狭缝之间，以及

外部区，包围所述多个构图狭缝；以及

所述一个或多个对准确认图案狭缝位于所述外部区的一部分中。

3.如权利要求1所述的有机层沉积组件，其中，所述构图狭缝片在至少一个方向上小于所述衬底。

4.如权利要求1所述的有机层沉积组件，其中，所述多个沉积源喷嘴沿第一方向形成在所述沉积源喷嘴单元处，

所述多个构图狭缝沿所述第一方向形成，以及

所述有机层沉积组件还包括遮蔽板组件，所述遮蔽板组件包括沿所述第一方向设置在所述沉积源喷嘴单元与所示构图狭缝片之间并将所述沉积源喷嘴单元与所述构图狭缝片之间的空间划分成多个沉积空间的多个遮蔽板。

5.如权利要求4所述的有机层沉积组件，其中，所述多个遮蔽板中的每一个沿第二方向延伸，所述第二方向基本垂直于所述第一方向。

6.如权利要求4所述的有机层沉积组件，其中，所述遮蔽板组件包括第一遮蔽板组件和第二遮蔽板组件，所述第一遮蔽板组件包括多个第一遮蔽板，所述第二遮蔽板组件包括多个第二遮蔽板。

7.如权利要求6所述的有机层沉积组件，其中，所述多个第一遮蔽板中的每一个和所述第二遮蔽板中的每一个沿基本垂直于所述第一方向的第二方向延伸，并且将所述沉积源喷嘴单元与所述构图狭缝片之间的所述空间划分成所述多个沉积空间。

8.如权利要求1所述的有机层沉积组件，其中，所述多个沉积源喷嘴沿第一方向形成在所述沉积源喷嘴单元处，以及

所述多个构图狭缝沿基本垂直于所述第一方向的第二方向形成。

9.如权利要求1所述的有机层沉积组件，其中，所述沉积源、所述沉积源喷嘴单元和所述构图狭缝片通过使用连接构件整体地结合。

10.如权利要求9所述的有机层沉积组件，其中，所述连接构件被配置为引导所述沉积材料的流动路径。

11.如权利要求9所述的有机层沉积组件，其中，所述连接构件从外部密封所述沉积源、所述沉积源喷嘴单元和所述构图狭缝片之间的空间。

12.有机层沉积设备，包括用于在衬底上沉积沉积材料的多个有机层沉积组件，所述多个有机层沉积组件中的每一个包括：

沉积源，用于排放所述沉积材料中的沉积材料；

沉积源喷嘴单元，位于所述沉积源的一侧，并且包括多个沉积源喷嘴；以及

多个构图狭缝片，面对所述沉积源喷嘴单元，并且包括多个构图狭缝和位于所述多个构图狭缝的边缘部分处的一个或多个对准确认图案狭缝，

其中，所述沉积源被配置为在进行沉积过程时排放所述沉积材料以经过所述多个构图狭缝片并随后排放在所述衬底上。

13.如权利要求12所述的有机层沉积设备，其中，当所述多个构图狭缝片相对于所述衬底对准以便将所述沉积材料沉积在所述衬底上时，分别形成在所述多个构图狭缝片处的所述一个或多个对准确认图案狭缝彼此不重叠。

14.如权利要求12所述的有机层沉积设备，其中，在所述衬底依次经过所述多个有机层沉积组件的同时，所述多个构图狭缝片被配置为在所述衬底上分别沉积不同的沉积材料，以及

其中，位于所述多个构图狭缝片处的所述一个或多个对准确认图案狭缝被配置为在所述衬底上分别形成对准确认图案。