[发明专利]有机层沉积组件和设备、有机发光显示设备及其制造方法

说明书

相关专利申请的交叉引用 

本申请要求于2012年8月3日在韩国知识产权局提交的第10-2012-0085389号韩国专利申请的优先权和权益，该申请的全部公开内容通过引用并入本文。 

技术领域

以下描述涉及有机层沉积组件、有机层沉积设备、有机发光显示设备和制造有机发光显示设备的方法，更具体地涉及为了改善沉积层特性的有机层沉积组件、有机层沉积设备、有机发光显示设备和制造有机发光显示设备的方法。 

背景技术

近年来，显示设备已被便携式薄平板显示设备替代。在平板显示设备中，有机发光显示设备是具有宽视角、高对比度以及快速响应速度的自发光显示装置，因而被视为下一代显示设备。 

有机发光显示设备包括中间层、第一电极、第二电极和多个薄层。中间层包括有机发光层（EML），并且在电压被施加到第一和第二电极时，有机EML产生可见光线。 

为了形成包含在有机发光显示设备中的中间层和多个薄层，可使用沉积工艺。就这一点而言，通常使用沉积掩模通过沉积工艺在衬底上形成特定图案。 

然而，难以使用沉积掩模在沉积工艺中形成精细且微小的图案。具体地，当有机发光显示设备的尺寸增加时，难以在衬底与沉积掩模之间进行对准，从而难以控制沉积层的特性，即，难以控制沉积层的微小图案。 

因此，在改善沉积层的特性方面存在局限。 

发明内容

本发明的实施方式的各方面针对有机层沉积组件、有机层沉积设备、有机发光显示设备和制造有机发光显示设备的方法，以便容易地改进沉积层的特性。 

根据本发明的实施方式，提供了用于在衬底上沉积有机层的有机层沉积组件，该有机层沉积组件包括用于排放沉积材料的沉积源、位于沉积源的一侧并且包括多个沉积源喷嘴的沉积源喷嘴单元以及构图狭缝片，构图狭缝片面对沉积源喷嘴单元，并且包括多个构图狭缝和位于多个构图狭缝的边缘部分的一个或多个对准确认图案狭缝，其中，在进行沉积过程的同时，从沉积源排放的沉积材料经过构图狭缝片然后形成在衬底上。 

构图狭缝片可包括形成在多个构图狭缝中的相邻的构图狭缝之间的中间区和包围多个构图狭缝的外部区，一个或多个对准确认图案狭缝可形成在外部区的一部分中。 

构图狭缝片可形成为在至少一个方向上小于衬底。 

多个沉积源喷嘴可沿第一方向形成在沉积源喷嘴单元处，多个构图狭缝可沿第一方向形成，以及有机层沉积组件还可包括遮蔽板组件，遮蔽板组件包括沿第一方向设置在沉积源喷嘴单元与所示构图狭缝片之间并将沉积源喷嘴单元与构图狭缝片之间的空间划分成多个沉积空间的多个遮蔽板。 

多个遮蔽板中的每一个可沿第二方向延伸，第二方向基本垂直于第一方向。 

遮蔽板组件可包括第一遮蔽板组件和第二遮蔽板组件，第一遮蔽板组件包括多个第一遮蔽板，第二遮蔽板组件包括多个第二遮蔽板。 

多个第一遮蔽板中的每一个和第二遮蔽板中的每一个可沿基本垂直于第一方向的第二方向延伸，并且可将沉积源喷嘴单元与构图狭缝片之间的空间划分成多个沉积空间。 

多个沉积源喷嘴可沿第一方向形成在沉积源喷嘴单元处，多个构 图狭缝可沿基本垂直于第一方向的第二方向形成。 

沉积源、沉积源喷嘴单元和构图狭缝片可通过使用连接构件整体地结合。 

连接构件可引导沉积材料的流动路径。 

连接构件可从外部密封沉积源、沉积源喷嘴单元和构图狭缝片之间的空间。 

根据本发明的另一实施方式，提供了一种有机层沉积设备，包括用于在衬底上沉积沉积材料的多个有机层沉积组件，多个有机层沉积组件中的每个包括：用于排放沉积材料中的沉积材料的沉积源、设置在沉积源的一侧并且包括多个沉积源喷嘴的沉积源喷嘴单元以及多个构图狭缝片，多个构图狭缝片面对沉积源喷嘴单元，并且包括多个构图狭缝和位于多个构图狭缝的边缘部分的一个或多个对准确认图案狭缝，其中，沉积源被配置为在进行沉积过程的同时，排放沉积材料经过多个构图狭缝片然后排放在衬底上。 

在一个实施方式中，当多个构图狭缝片相对于衬底对准以便将沉积材料沉积在衬底上时，分别形成在多个构图狭缝片处的一个或多个对准确认图案狭缝彼此不重叠。 

在衬底依次经过多个有机层沉积组件的情况下，不同的沉积材料可通过多个构图狭缝片分别沉积在衬底上，对准确认图案可通过形成在多个构图狭缝片处的一个或多个对准确认图案狭缝分别形成在衬底上。