[发明专利]智能调光低辐射玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种低辐射玻璃及其制备方法，尤其是一种智能调光低辐射玻璃及其制备方法。

背景技术

传统低辐射节能玻璃(Low-E)虽然是目前节能玻璃中市场认可度最高的产品，但其劣势为在固定的外界条件下，其光学和热学性能已在膜层制备完成后就不能随环境变化而随时调节，难以适应现代建筑智能化和更高的节能效果要求。

因此，开发利用电、气、光、热等不同物理刺激来实现玻璃光热性能可调节的节能玻璃成了市场追捧的热点，特别是以顺应环境温度变化实现光热自动调节的智能、绿色玻璃，更是当前市场研发的重点。

电致变色(Electrochromic，EC)是指在外加电场作用下，材料的光学性能发生连续可逆变化的现象，直观地表现为材料的颜色和透明度发生可逆变化的过程。电致变色玻璃可选择性的吸收或反射外界热辐射和阻止内部热扩散，减少室内在夏季保持凉爽、在冬季保持温暖而必须耗费的大量能源。通过电致变色玻璃制作的电致变色节能窗，可以在几乎所有与舒适节能有关的波段上实现光热的分波段自动调控。由于电致变色玻璃具有光学性能连续可调、低工作电压、低能耗、无辐射、宽视角、开路记忆等特点，除了在建筑领域的应用外，其在信息显示器件、信息存储器、防眩反射镜、变色太阳镜等方面也有着广阔的应用前景。

现有市场上的电致变色玻璃，其膜层的离子导体层和离子存储层多由液态电解质和有机聚合物电解质制成，容易腐蚀相邻膜层，长时间在太阳紫外光照射下变色层易老化，并且离子很容易发生扩散，逐渐失去变色功能，因此其膜层使用寿命和着色稳定性不理想。再者，现有的电致变色玻璃的制备工艺控制复杂，制造成本高，还限制了电致变色玻璃向大面积化、商业化应用的发展。

发明内容

鉴于上述状况，有必要提供一种智能调光低辐射玻璃及其制备方法，其可提高低辐射玻璃稳定性及简化其制造工艺的优点。

一种智能调光低辐射玻璃，其包括基片与依次形成于该基片上的透明导电组合层、无机变色层、无机锂离子导体层、无机离子储存层及透明导电层，其中该透明导电组合层的方块电阻为10～30欧姆。

该透明导电组合层包含一层氧化硅层以及覆盖于该氧化硅层上的一层掺氟氧化锡层、一层掺铝氧化锌层或一层氧化铟锡层。

该透明导电组合层的厚度为200～900nm。

该透明导电组合层的厚度为300～850nm。

该透明导电组合层的可见光透过率为75～90％。

该无机变色层材料包含氧化钨、氧化钨钼、氧化镍钒或氧化钒钛；该无机锂离子导体层为含锂离子的钨酸锂、磷酸锂或镍酸锂；该无机离子储存层为氧化钒锆、氧化钛钒、氧化镍、氧化钒、氧化镍钒、氧化钼或氧化钛；该透明导电层为掺氟氧化锡、掺铝氧化锌或氧化铟锡。

该无机变色层的厚度为20～100nm；该无机锂离子导体层厚度为30～600nm；该无机离子储存层的厚度为100～400nm；该透明导电层的厚度为100～600nm。

该无机变色层的厚度为35～70nm；该无机锂离子导体层厚度为100～400nm；该无机离子储存层的厚度为80～350nm；该透明导电层的厚度为180～500nm。

该透明导电层的方块电阻为12～35欧姆，可见光透过率为75～90％。

一种智能调光低辐射玻璃的制备方法，其包括以下步骤：提供基片；用CVD或用PVD沉积的方式形成透明导电组合层；用平面阴极直流加脉冲、或双旋转阴极中频交流反应磁控溅射沉积的方法形成无机变色层；用平面阴极直流加脉冲、或双旋转阴极中频交流磁控溅射沉积的方法形成锂离子导体层；用平面阴极直流加脉冲、或双旋转阴极中频交流反应磁控溅射沉积的方法形成离子储存层；以及用平面阴极直流加脉冲、或双旋转阴极中频交流反应磁控溅射沉积形成透明导电层。

上述智能调光低辐射玻璃采用独特的膜层结构，所有膜层都是由固体材料构成，实现了低辐射层与变色层的有效结合，实现了节能玻璃的智能化需求。同时因为其生产工艺的简化，大大降低生产成本，提高生产了效率。

附图说明

图1是本发明实施例的智能调光低辐射玻璃示意图。

具体实施方式

下面将结合附图及实施例对本发明的智能调光低辐射玻璃及其制备方法作进一步的详细说明。