[发明专利]放射线屏蔽膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种放射线屏蔽膜及其制造方法，本发明的放射线屏蔽膜含有能够屏蔽X射线等放射线的放射线屏蔽材料。

背景技术

作为放射线屏蔽材料，一直以来主要使用铅和含有铅的复合材料。但是，铅成分若被人体吸收则是有害的，需要特别注意铅成分的使用、废弃等，存在安全方面的问题。

另外，作为放射线屏蔽材料，一直以来使用例如具有一定厚度的铅板、将具有较高的放射线屏蔽率的粉体与热塑性树脂或热塑性弹性体混合后成型而成的屏蔽板等，但是在形成为板状的情况下，存在使用便利性差及加工成型性差的这一问题。

近年来，作为铅的替代，将钨、锡、锑和铋等用作放射线屏蔽材料。钨是一种具有较高的放射线屏蔽能力但价格较为昂贵的材料，铋也是一种具有与铅同等的放射线屏蔽能力但价格比较昂贵的材料。另一方面，锑和锡不具备足够的放射线屏蔽能力，因此若要使屏蔽膜保持所需要的屏蔽能力，存在需要增加屏蔽膜厚度的问题。

另外，在专利文献1（日本特开2007–271539号公报）中，作为铅的代替品，例如公开了将屏蔽能力高的钨粉末涂敷到衬底表面上而形成的放射性屏蔽膜、由钨粒子和热塑性树脂构成的放射线屏蔽膜等。但是，这些屏蔽膜由于其主要原料钨的价格昂贵，所以存在制造成本高的问题。

此外，专利文献2（日本特开2007–212304号公报）中提出一种用硫酸钡代替铅来作为放射线屏蔽材料的屏蔽膜，即、含有75wt%以上的硫酸钡和热塑性树脂及/或热塑性弹性体的放射线屏蔽膜。另外，专利文献3（日本特表2007–085865号公报）中提出了一种将稀土氧化物用作屏蔽材料的放射线屏蔽膜，其中，有机高分子材料为5wt%～20wt%，并且放射线屏蔽膜内的空隙率为10%～30%。但是，采用这些屏蔽材料时，因为屏蔽能力不够，所以在将具有足够屏蔽能力的屏蔽材料填充到屏蔽膜内的情况下，存在屏蔽膜增厚、多用性较差等的问题。

另外，在专利文献2中虽然已经公开了通过少量混合作为改性剂的PTFE系树脂而获得的屏蔽膜，但是该屏蔽膜将聚氯乙烯用作粘合剂，所以在柔韧性方面存在问题。

在这种情况下，希望开发一种不存在安全方面的问题、具有较高的放射线屏蔽能力且更为经济的放射线屏蔽膜。

发明内容

本发明鉴于现有技术的缺陷，目的在于提供一种具有柔韧性、使用便利性高、易于加工成型且具有较高的放射线屏蔽效果的放射线屏蔽膜。

本发明的一方面在于提供一种放射线屏蔽膜，其含有80wt%～99.9wt%的放射线屏蔽材料和作为粘合剂的0.01wt%～20wt%的聚四氟乙烯，其中，所述放射线屏蔽膜的总重量为100wt%。

较优的，所述放射线屏蔽膜的空隙率为3%～30%。

较优的，所述放射线屏蔽膜的厚度为0.5mm～6.0mm。

较优的，所述的放射线屏蔽膜还含有聚四氟乙烯以外的粘合剂，该聚四氟乙烯以外的粘合剂的相对于上述聚四氟乙烯的总重量的含量为50wt%以下；或者所述的放射线屏蔽膜不含有聚四氟乙烯以外的粘合剂。

较优的，所述聚四氟乙烯为纤维状。

较优的，所述放射线屏蔽材料选自钨、锡、锑、铋、钡、硅的单质，钨、锡、锑、铋、钡、硅的化合物，以及稀土元素氧化物中的一种或者两种以上的组合。

更优的，所述放射线屏蔽材料选自铋、硫酸钡和氧化铈中的一种或者两种以上的组合。

较优的，所述放射线屏蔽膜还含有着色剂。

更优的，所述着色剂为炭黑或活性炭。

本发明第二方面在于提供一种上述放射线屏蔽膜的制造方法，其包括混合工序和膜化工序，在所述混合工序中，按照所述放射线屏蔽膜的总重量为100wt%计，将80wt%～99.9wt%的放射线屏蔽材料和0.01wt%～20wt%的聚四氟乙烯混合；在所述膜化工序中，在以使所述聚四氟乙烯成为纤维的条件下，轧制混合工序中所获得的混合物而使其成为膜状。

较优的，在所述混合工序中，还混合有着色剂。

更优的，所述着色剂是炭黑或活性炭。

较优的，在所述混合工序中，在所述混合工序中混合聚四氟乙烯以外的粘合剂，该聚四氟乙烯以外的粘合剂的相对于所述聚四氟乙烯的总重量的含量为50wt%以下；或者在所述混合工序中不混合聚四氟乙烯以外的粘合剂。

本发明的放射线屏蔽膜由于屏蔽材料含量较高，所以放射线屏蔽能力优异，而且柔韧性好，使用便利性高，加工成型性好（即易于进行加工成型）。

附图说明

图1是本发明的放射线屏蔽膜的一例。