[发明专利]基于脒基硼杂苯基的前过渡金属配合物、合成方法以及应用

权利要求书

1.一类基于脒基硼杂苯基配体的前过渡金属配合物，其特征是具有如下结构式：

上述结构式中：

M为稀土金属离子或其它前过渡金属离子，所述的其它前过渡金属是第四或第六族过渡金属；

R¹、R³和R⁵为H；R²和R⁴为H或C1～C4的烃基；R⁶和R⁸为C1-C8烷基；R⁷为C1-C4的烷基或苯基；

X：是卤素、C1～C4的烃基或硅(C1～C6)烷基取代的C1～C4烷基；

为配位键；

n为2或3。

2.如权利要求1中所述的一类基于脒基硼杂苯基配体的前过渡金属配合物，其特征是具有如下结构式：

上述结构式中，R⁶、R⁷、R⁸、M、X、n、如权利要求1所述。

3.如权利要求1中所述的一类基于脒基硼杂苯基配体的前过渡金属配合物，其特征是具有如下结构式：

上述结构式中，R²、R⁴、R⁶、R⁷、R⁸、M、X、n、如权利要求1所述。

4.如权利要求1中所述的一类基于脒基硼杂苯基配体的前过渡金属配合物，其特征是结构式中，n为2，M为稀土金属离子或第六族过渡金属离子，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、X、与前述权利要求1中所述相同。

5.如权利要求1中所述的一类基于脒基硼杂苯基配体的前过渡金属配合物，其特征是结构式中，X为卤素，n为3，M为第四族过渡金属离子，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、与前述权利要求1中所述相同。

6.如权利要求1中所述的一类基于脒基硼杂苯基配体的前过渡金属配合物，其特征是结构式中，X为C1～C4的烃基或硅(C1～C6)烷基取代的C1～C4烷基，n为2，M为稀土金属离子或第六族过渡金属离子，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、与前述权利要求1中所述相同。

7.如权利要求1中所述的一类基于脒基硼杂苯基配体的前过渡金属配合物，其特征是所述的稀土金属离子为Sc、Y或Lu离子；所述的第四或第六族过渡金属离子分别为Zr或Cr离子；所述的X为氯。

8.如权利要求1中所述的一类基于脒基硼杂苯基配体的前过渡金属配合物，其特征是所述的脒基硼杂苯配体，结构式如下：

其中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸与前述权利要求1中所述相同。

9.如权利要求2中所述的一类基于脒基硼杂苯基配体的前过渡金属配合物，其特征是所述的脒基硼杂苯配体，结构式如下：

其中，R⁶、R⁷和R⁸与前述权利要求1中所述相同。

10.如权利要求3中所述的一类基于脒基硼杂苯基配体的前过渡金属配合物，其特征是所述的脒基硼杂苯配体，结构式如下：

其中，R²、R⁴、R⁶、R⁷和R⁸与前述权利要求1中所述相同。