[发明专利]光罩图案分析装置及光罩图案分析方法有效
申请号: | 201310234762.3 | 申请日: | 2013-06-13 |
公开(公告)号: | CN103488044A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 傅国贵 | 申请(专利权)人: | 南亚科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 赵根喜;李昕巍 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 分析 装置 方法 | ||
1.一种光罩图案分析装置,包含:
一处理器,用以:
群组一电路布局中多个多角形而形成多个多角形群;
根据该电路布局的一虚像,找出各该多角形群的潜在缺陷区域;
决定各该多角形群的该潜在缺陷区域的代表点;
决定各该多角形群中该多个多角形的代表点;以及
比较所述多个多角形群的一者中该多个多角形的代表点与该者的该潜在缺陷区域的代表点之间的相对分布关系与所述多个多角形群的另一者中该多个多角形的代表点与该另一者的该潜在缺陷区域的代表点之间的相对分布关系。
2.根据权利要求1的光罩图案分析装置,其中在该处理器用以比较中包含该处理器用以:
在各该多角形群中决定出由该潜在缺陷区域的代表点至所述多个多角形的一者的代表点的一向量;
将各该多角形群中的所述多个向量形成一矩阵;以及
比对所述多个多角形群的一者的该矩阵与所述多个多角形群的另一者的该矩阵。
3.根据权利要求2的光罩图案分析装置,其中在该处理器用以比较中包含该处理器用以:
转换所述多个多角形群的该者的该矩阵;以及
比对转换后所述多个多角形群的该者的该矩阵与所述多个多角形群的该另一者的该矩阵。
4.根据权利要求3的光罩图案分析装置,其中在该处理器用以转换所述多个多角形群的该者的该矩阵中包含该处理器用以旋转或镜射所述多个多角形群的该者的该矩阵。
5.根据权利要求1的光罩图案分析装置,其中各该多角形群包含至少一重点区域。
6.根据权利要求1的光罩图案分析装置,其中各该多角形群被涵盖在面积为1平方微米至16平方微米的一预定区域中。
7.根据权利要求1的光罩图案分析装置,其中各该多角形或该潜在缺陷区域的代表点为一质心或一几何中心。
8.根据权利要求3的光罩图案分析装置,其中该处理器进一步用以将所述多个多角形群的该者以及所述多个多角形群的该另一者组成一群组,若所述多个多角形群的该者的该矩阵或该转换后矩阵与所述多个多角形群的该另一者的该矩阵相同。
9.根据权利要求8的光罩图案分析装置,其中该处理器进一步用以搜集各该群组的一多角形群及不属于任一群组的其他多角形群。
10.一种分析光罩图案的方法,包含以下步骤:
通过一处理器,群组一电路布局中多个多角形而形成多个多角形群;
通过一处理器,根据该电路布局的一虚像,找出各该多角形群的潜在缺陷区域;
通过一处理器,决定各该多角形群的该潜在缺陷区域的代表点;
通过一处理器,决定各该多角形群中该多个多角形的代表点;以及
通过一处理器,比较所述多个多角形群的一者中该多个多角形的代表点与该者的该潜在缺陷区域的代表点之间的相对分布关系与所述多个多角形群的另一者中该多个多角形的代表点与该另一者的该潜在缺陷区域的代表点之间的相对分布关系。
11.根据权利要求10的方法,其中比较步骤包含:
在各该多角形群中决定出由该潜在缺陷区域的代表点至所述多个多角形的一者的代表点的一向量;
将各该多角形群中的所述多个向量形成一矩阵;以及
比对所述多个多角形群的一者的该矩阵与所述多个多角形群的该另一者的该矩阵。
12.根据权利要求11的方法,其中该比对步骤包含:
转换所述多个多角形群的该者的该矩阵;以及
比对转换后所述多个多角形群的该者的该矩阵与该另一多角形群的该矩阵。
13.根据权利要求12的方法,其中该转换步骤包含对各该多角形群的矩阵进行一旋转操作、一镜射操作、或其组合。
14.根据权利要求10的方法,其中该潜在缺陷区域的代表点包含一质心或一几何中心。
15.根据权利要求10的方法,其中所述多个多角形的代表点包含所述多个多角形的一质心或一几何中心。
16.根据权利要求12的方法,进一步包含:
若所述多个多角形群的该者的该矩阵或该转换后矩阵与所述多个多角形群的该另一者的该矩阵相同,则将所述多个多角形群的该者以及所述多个多角形群的该另一者组成一群组。
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