[发明专利]透明红外线反射层叠体及其制造方法有效
| 申请号： | 201310247398.4 | 申请日： | 2013-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN103507322B | 公开（公告）日： | 2017-12-19 |
| 发明（设计）人： | 古田健;近藤康雄;古市宪亲 | 申请（专利权）人： | 北川工业株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/04 | 分类号： | B32B9/04;B32B15/04;B32B27/06;B32B27/36 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司11204 | 代理人： | 王达佐,阴亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透明 红外线 反射 层叠 及其 制造 方法 | ||
1.透明红外线反射层叠体，其具有：
透明的基材；
包含银或银合金作为主要成分的金属层；和
以夹着该金属层的方式所设置的、两层的包含以组成式NbOx所表示的铌氧化物作为主要成分的氧化物层，
所述组成式NbOx的x是：1.6≤x≤1.7，
其中所述层叠体的可见光透射率为70％以上且日照反射率为30％以上。
2.如权利要求1所述的透明红外线反射层叠体，其中所述金属层的主要成分是银钯合金。
3.如权利要求1或2所述的透明红外线反射层叠体，其中所述氧化物层的厚度是30-41nm。
4.如权利要求1或2所述的透明红外线反射层叠体，其中所述金属层的厚度是16-21nm。
5.如权利要求3所述的透明红外线反射层叠体，其中所述金属层的厚度是16-21nm。
6.如权利要求1或2所述的透明红外线反射层叠体，其中所述基材是薄膜状，所述基材的材料包括聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。
7.如权利要求3所述的透明红外线反射层叠体，其中所述基材是薄膜状，所述基材的材料包括聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。
8.如权利要求4所述的透明红外线反射层叠体，其中所述基材是薄膜状，所述基材的材料包括聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。
9.如权利要求5所述的透明红外线反射层叠体，其中所述基材是薄膜状，所述基材的材料包括聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。
10.如权利要求1或2所述的透明红外线反射层叠体，其中所述基材是薄膜状，所述基材的厚度在25-188μm的范围。
11.如权利要求3所述的透明红外线反射层叠体，其中所述基材是薄膜状，所述基材的厚度在25-188μm的范围。
12.如权利要求4所述的透明红外线反射层叠体，其中所述基材是薄膜状，所述基材的厚度在25-188μm的范围。
13.如权利要求5所述的透明红外线反射层叠体，其中所述基材是薄膜状，所述基材的厚度在25-188μm的范围。
14.制造权利要求1所述的透明红外线反射层叠体的方法，其包括通过磁控溅射法形成所述金属层和所述氧化物层。
15.如权利要求14所述的方法，其中所述磁控溅射法是卷对卷方式的磁控溅射法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北川工业株式会社，未经北川工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310247398.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
