[发明专利]一种用于全向连接的金属电容及布图方法

权利要求书

1.一种金属电容，包括奇数层和偶数层上下两层插指电容，其特征在于，奇数层和偶数层分别包括上部和下部，其中，

奇数层的上部和下部分别包括横向走线和多个插指，且该多个插指上下交错，在上下交错的插指之间，还包括一连续蛇形走线，该蛇形走线位于插指之间，与插指等距离，并在插指的端部弯折相连，弯折相连部分与横向走线平行，且蛇形走线的两端分别连接一竖向连线；

偶数层的上部和下部分别包括横向连接走线和多个插指，且该多个插指上下交错，在上下交错的插指之间，还包括一连续蛇形走线，该蛇形走线位于插指之间，与插指等距离，并在插指的端部弯折相连，弯折相连部分与横向走线平行，且蛇形走线的两端分别连接一竖向连线；

偶数层的多个插指与上下对应的奇数层的多个插指左右相互偏移一个单位，偶数层的蛇形走线与上下对应的奇数层的蛇形走线左右相互偏移一个单位。

2.如权利要求1所述的金属电容，其特征在于，奇数层的蛇形走线的该竖向连线等于插指的长度，并与上部和下部的横向走线之间的距离相同；偶数层的上部和下部的横向走线均等于蛇形走线的两端竖向连线之间的距离。

3.如权利要求1所述的金属电容，其特征在于，奇数层和偶数层的上下多个插指连接于同一电极，蛇形走线连接于另一电极。

4.如权利要求1、2或者3所述的全向连接的金属电容，其特征在于，还包括多个通孔，分别位于奇数层和偶数层的上部和下部的横向走线和蛇形走线的竖向连线，将奇数层和偶数层的插指和蛇形走线分别连接。

5.一种采用权利要求1-4任意项之一的金属电容组成的全向连接的电容，其特征在于，该全向连接的电容为多个金属电容组成M*N列矩阵排列，奇数层中同一行的左右金属电容公用蛇形走线的竖向连线，同一列的上下金属电容通过蛇形走线的竖向连线彼此相连；偶数层中同一行的左右金属电容公用上部和下部的横向走线；同一列的上下金属电容间，上一行的金属电容的下部横向走线作为下一行的金属电容的上部横向走线。

6.一种金属电容的布线方法，该金属电容包括奇数层和偶数层上下两层插指电容，其特征在于，奇数层和偶数层分别包括上部和下部，奇数层的上部和下部分别包括横向走线和多个插指，且该多个插指上下交错，在上下交错的插指之间，设置一连续蛇形走线，该蛇形走线位于插指之间，与插指等距离，并在插指的端部弯折相连，弯折相连部分与横向走线平行，且蛇形走线的两端分别连接一竖向连线；

偶数层的上部和下部分别包括横向连接走线和多个插指，且该多个插指上下交错，在上下交错的插指之间，设置一连续蛇形走线，该蛇形走线位于插指之间，与插指等距离，并在插指的端部弯折相连，弯折相连部分与横向走线平行，且蛇形走线的两端分别连接一竖向连线；

偶数层的多个插指与上下对应的奇数层的多个插指左右相互偏移一个单位，偶数层的蛇形走线与上下对应的奇数层的蛇形走线左右相互偏移一个单位。

7.如权利要求1所述的金属电容的布线方法，其特征在于，奇数层的蛇形走线的该竖向连线等于插指的长度，并与上部和下部的横向走线之间的距离相同；偶数层的上部和下部的横向走线均等于蛇形走线的两端竖向连线之间的距离。

8.如权利要求1所述的金属电容的布线方法，其特征在于，奇数层和偶数层的上下多个插指连接于同一电极，蛇形走线连接于另一电极。

9.如权利要求1、2或者3所述的全向连接的金属电容，其特征在于，还包括多个通孔，分别位于奇数层和偶数层的上部和下部的横向走线和蛇形走线的竖向连线，将奇数层和偶数层的插指和蛇形走线分别连接。

10.一种采用权利要求6-9任意项之一的金属电容的布线方法构成的全向连接的电容，其特征在于，该全向连接的电容为多个金属电容组成M*N列矩阵排列，奇数层中同一行的左右金属电容公用蛇形走线的竖向连线，同一列的上下金属电容通过蛇形走线的竖向连线彼此相连；偶数层中同一行的左右金属电容公用上部和下部的横向走线；同一列的上下金属电容间，上一行的金属电容的下部横向走线作为下一行的金属电容的上部横向走线。