[发明专利]一种吸附面板及其制作方法、对合装置

权利要求书

1.一种吸附面板，其特征在于，包括：基板、设置在所述基板上的微米层级结构，其中，所述微米层级结构包括多个微米物质单元；

在所述微米物质单元表面设置有纳米层级结构，其中，所述纳米层级结构包括多个纳米物质单元。

2.根据权利要求1所述的吸附面板，其特征在于，所述基板和所述微米层级结构的材料相同。

3.根据权利要求2所述的吸附面板，其特征在于，所述基板和所述微米层级结构为一体结构。

4.根据权利要求2所述的吸附面板，其特征在于，所述基板和所述微米层级结构的材料为硅。

5.根据权利要求1所述的吸附面板，其特征在于，所述微米物质单元在基板上以阵列的形式排布。

6.根据权利要求1所述的吸附面板，其特征在于，所述微米物质单元为圆柱形。

7.根据权利要求6所述的吸附面板，其特征在于，所述微米层级结构的圆柱的直径为3-5μm，所述微米层级结构的圆柱高10-15μm，所述微米层级结构相邻两个圆柱的轴心相距8-10μm。

8.根据权利要求1-7任一项所述的吸附面板，其特征在于，所述纳米层级结构设置在所述微米物质单元的顶表面上。

9.根据权利要求8所述的吸附面板，其特征在于，所述纳米物质单元在微米物质单元的顶表面上以阵列的形式排布。

10.根据权利要求8所述的吸附面板，其特征在于，所述纳米物质单元为圆柱形。

11.根据权利要求10所述的吸附面板，其特征在于，所述纳米层级结构的圆柱的直径为100-200nm，所述纳米层级结构的圆柱高2.5-3μm，所述纳米层级结构相邻两个圆柱的轴心相距150-300nm。

12.根据权利要求1所述的吸附面板，其特征在于，所述纳米物质单元为碳纳米管。

13.一种吸附面板的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上形成微米层级结构，其中，所述微米层级结构包括多个微米物质单元；

在所述微米物质单元表面形成纳米层级结构，其中，纳米层级结构包括多个纳米物质单元。

14.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于，在基板上形成微米层级结构具体为：

在基板表面形成光刻胶层；

利用掩膜板对所述基板进行曝光和显影，显影后形成光刻胶保留部分和光刻胶去除部分，其中，光刻胶保留部分对应微米物质单元；

刻蚀基板上未覆盖光刻胶的部分；

将光刻胶剥离。

15.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于，在所述微米物质单元表面形成纳米层级结构具体为：

在微米物质单元表面形成纳米层薄膜；

在纳米层薄膜的表面形成光刻胶层；

利用掩膜板对所述光刻胶层进行曝光和显影，显影后形成光刻胶保留部分和光刻胶去除部分，其中，光刻胶保留部分对应纳米物质单元；

刻蚀纳米层薄膜未覆盖光刻胶的部分；将光刻胶剥离。

16.根据权利要求13所述的制作方法，其特征在于，通过化学气相沉积法，在微米物质单元表面形成纳米层级结构。

17.一种对合装置，其特征在于，包括权利要求1-12任一项所述的吸附面板。