[发明专利]快速定位单个通孔位置的方法有效
申请号: | 201310264897.4 | 申请日: | 2013-06-27 |
公开(公告)号: | CN103336407A | 公开(公告)日: | 2013-10-02 |
发明(设计)人: | 夏国帅;何大权;魏芳;张旭升 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 快速 定位 单个 位置 方法 | ||
1.一种快速定位单个通孔位置的方法,应用于金属通孔的光刻工艺流程中,其特征在于,所述方法包括:
提供一具有多个通孔图案的版图;
采用网格法滤除部分不符合要求的通孔图案;
将剩余的通孔图案进行放大,以筛选出单个通孔;
对所述单个通孔进行光学临近修正处理。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法包括:
步骤a:于所述版图上设计一单元格尺寸为L*L的网格;
如果任意一所述单元格内包含有至少两个通孔,则将该单元格中的所有通孔予以滤除;若任意一个单元格内只有一个通孔则进入步骤b;
步骤b:将所述网格横向或纵向进行移动,如果任意一个移动后的单元格内包含有至少两个通孔,则将移动后的单元格内的所有通孔予以滤除;
步骤c:以每个剩余通孔的中心为圆心,放大所述剩余通孔图案并经过多次切除边角得到一圆形图案,以形成多个以剩余通孔中心为圆心,且半径为L的外圆图案;若外圆图案内没有其他通孔,则该外圆圆心所在的通孔为单个通孔,若外圆内包含有其他通孔,则滤除该外圆圆心所在的通孔;
同时,若放大两个通孔形成的外圆图案相交,将该两通孔的中心作为圆心,放大并切除边角得到两个半径为L/2的内圆图案,如果两内圆图案相交,则滤除该两个通孔;如果两内圆不相交,则进入步骤d;
步骤d:判断以该两个通孔中心的圆环区域内是否有在步骤a和步骤b中滤除的通孔,如果没有,则该两个通孔为单个通孔;若两个圆环区域内包含有在步骤a和步骤b中滤除的通孔,则以该滤除的通孔中心为圆心,放大并切除边角形成一半径为L的圆,如果该圆包含相交外圆圆心所在的通孔,则滤除该通孔;
步骤e:经过上述步骤的筛选,对最终得到符合条件的每个所述单个通孔做光学临近修正处理。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,步骤b中,将所述网格在横向或纵向移动L/2,并判断移动后的单元格内通孔的数量。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,放大剩余通孔图案后切除16次边角,得到外圆图案。
5.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述单个通孔与其他所述通孔的间距超过L。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述L根据工艺需求而设定。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,采用光学临近修正对每个所述单个通孔进行放大处理。
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G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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