[发明专利]LED基板的制作方法、LED及其固晶方法无效

专利信息
申请号: 201310269275.0 申请日: 2013-06-28
公开(公告)号: CN103346239A 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 韩庆华;袁永刚 申请(专利权)人: 苏州东山精密制造股份有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/64
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏晓波
地址: 215107 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: led 制作方法 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种LED基板的制作方法,其特征在于,包括步骤:

1)选择玻璃态转化温度大于或者等于250℃的BT板作为所述LED基板的板材;

2)对所述BT板进行冲孔;

3)在所述BT板上加工导通孔,所述导通孔沿所述BT板的厚度方向贯穿所述BT板;

4)在所述BT板的上表面和下表面以及所述导通孔的内壁镀铜,分别形成上层铜箔、下层铜箔和内层铜箔,所述内层铜箔分别与所述上层铜箔和所述下层铜箔相连;

5)制作线路,获得LED基板。

2.根据权利要求1所述的LED基板的制作方法,其特征在于,所述步骤3)中,所述导通孔呈条形,且所述导通孔的数目至少为两个,相邻的两个所述导通孔之间具有放置LED芯片所需的距离。

3.根据权利要求1所述的LED基板的制作方法,其特征在于,所述步骤4)和所述步骤5)之间还包括步骤:在所述BT板内压入连接所述上层铜箔和所述下层铜箔的散热柱。

4.根据权利要求3所述的LED基板的制作方法,其特征在于,所述散热柱为铜柱。

5.根据权利要求1所述的LED基板的制作方法,其特征在于,所述步骤4)中,所述上层铜箔的厚度大于所述下层铜箔的厚度。

6.根据权利要求5所述的LED基板的制作方法,其特征在于,所述步骤4)中,所述BT板的上表面残铜率小于或者等于8%,所述BT板的下表面残铜率小于或者等于8%。

7.一种LED的固晶方法,其特征在于,包括步骤:

1)选择BT基板,所述BT基板采用如权利要求1-6中任意一项所述的LED基板的制作方法获得;

2)按照预设烘烤温度和预设烘烤时间烘烤所述BT基板;

3)采用共晶焊接方式将芯片固定在所述BT基板上。

8.根据权利要求7所述的LED的固晶方法,其特征在于,所述步骤2)中,所述预设烘烤温度为80℃,所述预设烘烤时间为12h。

9.根据权利要求7所述的LED的固晶方法,其特征在于,所述步骤3)中,所述共晶焊接中所使用的保护气体的流量为2m3/h;所述保护气体为氮氢保护气体,其中,氮气的含量为90%,氢气的含量为10%。

10.一种LED,包括基板和固定于所述基板上的芯片,其特征在于,所述芯片采用如权利要求7-9中任意一项所述的LED固晶方法固定于所述基板上。

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