[发明专利]磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备

权利要求书

1.一种磁控溅射靶材护罩，其特征在于，包括：

绝缘柱，所述绝缘柱的一端固定于镀膜腔室内壁；

第一护罩，呈板状结构，所述第一护罩与所述绝缘柱的另一端连接，以使所述第一护罩固定于所述镀膜腔室内壁，所述第一护罩开设有第一通孔，所述第一通孔可引导沉积物等杂质通过以落入所述镀膜腔室内壁；

第二护罩，呈板状结构，所述第二护罩的数量为至少一个，所述第二护罩可拆卸地安装于所述第一护罩端部，所述第一护罩和所述第二护罩形成收容腔，所述收容腔用于收容阴极靶材。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射靶材护罩，其特征在于，所述第一通孔为长条形孔。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射靶材护罩，其特征在于，所述第一通孔位于所述第一护罩的边缘。

4.根据权利要求3所述的磁控溅射靶材护罩，其特征在于，所述第一护罩的侧面为长方形，所述第一通孔沿长方形的长边延伸。

5.根据权利要求1所述的磁控溅射靶材护罩，其特征在于，所述第一护罩上还开设有第二通孔，所述绝缘柱穿设所述第二通孔连接于所述阴极靶材。

6.根据权利要求1所述的磁控溅射靶材护罩，其特征在于，所述第二护罩通过螺纹紧固件安装于所述第一护罩的端部。

7.根据权利要求1所述的磁控溅射靶材护罩，其特征在于，还包括楔形条，所述楔形条可拆卸地安装于所述第二护罩远离所述第一护罩的一端，所述阴极靶材位于所述楔形条和所述第一护罩之间。

8.根据权利要求1所述的磁控溅射靶材护罩，其特征在于，所述第一护罩和所述第二护罩均为金属护罩。

9.一种磁控溅射卷绕镀膜设备，用于在柔性基材上溅射镀膜，其特征在于，包括：

镀膜辊，所述镀膜辊用于卷绕基材；

至少两个阴极靶材，相邻两个所述阴极靶材呈预定角度设置，所述阴极靶材包括溅射面和与所述溅射面相对的背面，所述阴极靶材通过所述溅射面溅射靶原子至基材；

定位装置，为直三棱柱形，所述定位装置位于相邻两个所述阴极靶材之间，所述定位装置的两相邻侧面分别垂直于相邻两个所述阴极靶材所在的平面；

至少两个阴极靶材底座，所述阴极靶材卡嵌于所述阴极靶材底座，以支撑所述阴极靶材，及

至少两个如权利要求1至8中任意一项所述的磁控溅射靶材护罩，所述相邻两个磁控溅射靶材护罩分别位于所述定位装置两侧，相邻两个所述第一护罩的一端固定于所述定位装置的一侧。

10.根据权利要求9所述的磁控溅射卷绕镀膜设备，其特征在于，所述定位装置的底部设有定位装置底座，所述定位装置底座为楔形块状，所述定位装置底座的两相对侧面凹设有凹槽，相邻两个所述第一护罩分别插设于定位装置底座两侧的凹槽。