[发明专利]磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201310274710.9 申请日: 2013-07-02
公开(公告)号: CN103343322A 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 李晨光;徐少东 申请(专利权)人: 南昌欧菲光科技有限公司;深圳欧菲光科技股份有限公司;苏州欧菲光科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 邓云鹏
地址: 330000 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 磁控溅射 护罩 卷绕 镀膜 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及磁控溅射领域,特别是涉及一种磁控溅射靶材护罩及应用该磁控溅射靶材护罩的磁控溅射卷绕镀膜设备。

背景技术

触摸屏是一种显著改善人机操作界面的输入设备,具有直观、简单、快捷的优点。触摸屏在许多电子产品中已经获得了广泛的应用,比如手机、个人数字助理(Personal Digital Assistant,PDA)、多媒体、公共信息查询系统等。

触摸屏的导电膜可以通过磁控溅射卷绕镀膜设备来制备。磁控溅射是在阴极靶材的表面上方形成一个正交电磁场。当溅射产生的二次电子在阴极位降区内被加速为高能电子后,并不直接飞向阳极,而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近似摆线的运动。高能电子不断与气体分子发生碰撞并向气体分子转移能量使之电离,而高能电子本身变成低能电子。这些低能电子最终沿磁力线漂移到阴极附近的辅助阳极而被吸收,避免高能电子对极板的强烈轰击,消除了二极溅射中极板被轰击加热和被电子辐照引起损伤的根源,体现磁控溅射中极板“低温”的特点。

然而在磁控溅射镀膜过程中,容易产生沉积物等杂质,产生的沉积物等杂质落入靶材下方积累于水平护罩表面,溅射时间越长,沉积物越多,清洁时该沉积物很难被清洁彻底。这些沉积物等杂质颗粒在溅射镀膜的过程中放电,放电时产生电火花,极易造成阴极靶材打火现象,严重影响产品品质。

发明内容

基于此,有必要针对沉积物难以被清洁容易造成阴极靶材打火现象的问题,提供一种沉积物容易被清洁的磁控溅射靶材护罩及应用该磁控溅射靶材护罩的磁控溅射卷绕镀膜设备。

一种磁控溅射靶材护罩,包括:

绝缘柱,所述绝缘柱的一端固定于镀膜腔室内壁;

第一护罩,呈板状结构,所述第一护罩与所述绝缘柱的另一端连接,以使所述第一护罩固定于所述镀膜腔室内壁,所述第一护罩开设有第一通孔,所述第一通孔可引导沉积物等杂质通过以落入所述镀膜腔室内壁;

第二护罩,呈板状结构,所述第二护罩的数量为至少一个,所述第二护罩可拆卸地安装于所述第一护罩端部,所述第一护罩和所述第二护罩形成收容腔,所述收容腔用于收容阴极靶材。

在其中一个实施例中,所述第一通孔为长条形孔。

在其中一个实施例中,所述第一通孔位于所述第一护罩的边缘。

在其中一个实施例中,所述第一护罩的侧面为长方形,所述第一通孔沿长方形的长边延伸。

在其中一个实施例中,所述第一护罩上还开设有第二通孔,所述绝缘柱穿设所述第二通孔连接于所述阴极靶材。

在其中一个实施例中,所述第二护罩通过螺纹紧固件安装于所述第一护罩的端部。

在其中一个实施例中,还包括楔形条,所述楔形条可拆卸地安装于所述第二护罩远离所述第一护罩的一端,所述阴极靶材位于所述楔形条和所述第一护罩之间。

在其中一个实施例中,所述第一护罩和所述第二护罩均为金属护罩。

一种磁控溅射卷绕镀膜设备,用于在柔性基材上溅射镀膜,包括:

镀膜辊,所述镀膜辊用于卷绕基材;

至少两个阴极靶材,相邻两个所述阴极靶材呈预定角度设置,所述阴极靶材包括溅射面和与所述溅射面相对的背面,所述阴极靶材通过所述溅射面溅射靶原子至基材;

定位装置,为直三棱柱形,所述定位装置位于相邻两个所述阴极靶材之间,所述定位装置的两相邻侧面分别垂直于相邻两个所述阴极靶材所在的平面;

至少两个阴极靶材底座,所述阴极靶材卡嵌于所述阴极靶材底座,以支撑所述阴极靶材,及

至少如以上所述的磁控溅射靶材护罩,所述相邻两个磁控溅射靶材护罩分别位于所述定位装置两侧,相邻两个所述第一护罩的一端固定于所述定位装置的一侧。

在其中一个实施例中,所述定位装置的底部设有定位装置底座,所述定位装置底座为楔形块状,所述定位装置底座的两相对侧面凹设有凹槽,相邻两个所述第一护罩分别插设于定位装置底座两侧的凹槽。

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