[发明专利]中脱盖带

权利要求书

1.一种中脱盖带，其特征是所述的中脱盖带由上至下依次包括基材薄膜层（1）、压敏胶粘剂层（2）和覆膜层（3），在基材薄膜层（1）的下表面设有压敏胶粘剂层（2），压敏胶粘剂层（2）的上表面与基材薄膜层（1）的下表面粘贴，压敏胶粘剂层（2）的下表面与覆膜层（3）粘贴，覆膜层（3）的宽度小于压敏胶粘剂层（2），压敏胶粘剂层（2）底部的两侧裸露，在基材薄膜层（1）两侧的边缘分别设有两排微型切口组。

2.根据权利要求1所述的中脱盖带，其特征是所述的基材薄膜层（1）的厚度控制在10—50μm，基材薄膜层（1）采用双向拉伸聚丙烯薄膜。

3.根据权利要求1所述的中脱盖带，其特征是所述的基材薄膜层（1）的厚度控制在10—50μm，基材薄膜层（1）采用抗静电剂处理过的双向拉伸聚丙烯薄膜，经过处理后的双向拉伸聚丙烯薄膜的表面电阻在10⁴—10¹²欧姆的范围内。

4.根据权利要求2或3所述的中脱盖带，其特征是所述的基材薄膜层（1）的厚度优选为25~35μm。

5.根据权利要求1所述的中脱盖带，其特征是所述的压敏胶粘剂层（2）厚度控制在10—50μm，压敏胶粘剂层（2）设置为聚丙烯酸酯系压敏胶层。

6.根据权利要求5所述的中脱盖带，其特征是所述的压敏胶粘剂层（2）的厚度优选为30~40μm。

7.根据权利要求1所述的中脱盖带，其特征是所述的覆膜层（3）厚度控制在5—20μm，覆膜层（3）采用双向拉伸聚丙烯薄膜。

8.根据权利要求1所述的中脱盖带，其特征是所述的覆膜层（3）厚度控制在5—20μm，覆膜层（3）采用经过抗静电剂处理后的双向拉伸聚丙烯薄膜，经过处理后的双向拉伸聚丙烯薄膜的表面电阻在10⁴—10¹²欧姆的范围内。

9.根据权利要求1所述的中脱盖带，其特征是所述的覆膜层（3）厚度控制在5—20μm，覆膜层（3）采用双向拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。

10.根据权利要求1所述的中脱盖带，其特征是所述的覆膜层（3）厚度控制在5—20μm，覆膜层（3）采用经过抗静电剂处理后的双向拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，经过处理后的双向拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的表面电阻在10⁴—10¹²欧姆的范围内。

11.根据权利要求7、8、9或10所述的中脱盖带，其特征是覆膜层（3）厚度优选为10~18μm。

12.根据权利要求1所述的中脱盖带，其特征是在压敏胶粘剂层（2）粘贴覆膜层（3）后压敏胶粘剂层（2）底部两侧裸露的宽度为0.5—2.5μm。

13.根据权利要求1所述的中脱盖带，其特征是所述的两排微型切口组对称分布在基材薄膜层（1）两侧的边缘，每排微型切口组分布有若干微型切口（4），每个微型切口（4）设置为弧形的微型切口（4），弧形的微型切口（4）的直径为0.3—1.0mm，两排微型切口（4）之间的间隔为40—100 mm。

14.根据权利要求1所述的中脱盖带，其特征是所述的中脱盖带的总厚度控制在20-120μm。

15.根据权利要求14所述的中脱盖带，其特征是所述的中脱盖带的总厚度优选为50~80μm。

16.根据权利要求1所述的中脱盖带，其特征是所述的中脱盖带封合在采用聚苯乙烯、聚碳酸酯或聚对苯二甲酸乙二醇酯制造的载带上。