[发明专利]利用光二聚化学作用的光致抗蚀剂和使用该光致抗蚀剂的有机发光二极管显示器的制造方法

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂用共聚物，所述共聚物通过包括以下步骤的方法形成：

提供由式(1)表示的第一单体和由式(2)表示的第二单体：

由所述第一单体和所述第二单体形成所述共聚物，其中，x:y是所述第一单体与所述第二单体的比率，并且x:y选自x:y=1:0.1至x:y=1:1的范围。

2.如权利要求1所述的共聚物，其中，x:y选自x:y=1:0.19至x:y=1:0.77的范围。

3.如权利要求1所述的共聚物，其中，x:y为1:0.19。

4.如权利要求1所述的共聚物，其中，x:y为1:0.25。

5.如权利要求1所述的共聚物，其中，x:y为1:0.38。

6.如权利要求1所述的共聚物，其中，x:y为1:0.58。

7.如权利要求1所述的共聚物，其中，x:y为1:0.77。

8.一种有机发光二极管显示器的制造方法，所述方法包括：

在基板上形成电极；

在所述电极上沉积有机发光层；

在所述有机发光层上沉积光致抗蚀剂，所述光致抗蚀剂包含共聚物，所述共聚物通过包括以下步骤的方法形成：

提供由式(1)表示的第一单体和由式(2)表示的第二单体：

由所述第一单体和所述第二单体形成所述共聚物，其中，x:y是所述第一单体与所述第二单体的比率，并且x:y选自x:y=1:0.1至x:y=1:1的范围；

通过使用掩模使所述光致抗蚀剂对紫外光曝光从而使所述光致抗蚀剂图案化成为图案化光致抗蚀剂；

使用所述图案化光致抗蚀剂使所述有机发光层图案化成为图案化有机发光层；和

剥去所述图案化光致抗蚀剂。

9.如权利要求8所述的方法，其中，所述紫外光的波长为365nm。

10.如权利要求8所述的方法，其中，使用含氟溶剂对所述光致抗蚀剂进行图案化。

11.如权利要求8所述的方法，其中，x:y选自x:y=1:0.19至x:y=1:0.77的范围。

12.一种有机发光二极管显示器的制造方法，所述方法包括：

在基板上形成电极；

在所述电极上沉积光致抗蚀剂，所述光致抗蚀剂包含共聚物，所述共聚物通过包括以下步骤的方法形成：

提供由式(1)表示的第一单体和由式(2)表示的第二单体：

由所述第一单体和所述第二单体形成所述共聚物，其中，x:y是所述第一单体与所述第二单体的比率，并且x:y选自x:y=1:0.1至x:y=1:1的范围；

通过使用掩模使所述光致抗蚀剂对紫外光曝光从而使所述光致抗蚀剂图案化成为图案化光致抗蚀剂；

在所述图案化光致抗蚀剂和所述电极上沉积有机发光层；和

除去所述图案化光致抗蚀剂和所述图案化光致抗蚀剂上的所述有机发光层部分。

13.如权利要求12所述的方法，其中，所述紫外光的波长为365nm。

14.如权利要求12所述的方法，其中，使用含氟溶剂对所述光致抗蚀剂进行图案化。

15.如权利要求12所述的方法，其中，x:y选自x:y=1:0.19至x:y=1:0.77的范围。