[发明专利]有机物沉积装置

权利要求书

1.一种有机物沉积装置，用于在基板上沉积有机物，包括：

工艺腔室；

第一输送轨道，配置在所述工艺腔室的内部；

第二输送轨道，在所述工艺腔室的内部配置在所述第一输送轨道的上部，并与所述第一输送轨道隔开；

至少一个掩模组合体，与所述第一输送轨道结合并沿所述第一输送轨道输送；

至少一个基板组合体，与所述基板及所述第二输送轨道结合并沿所述第二输送轨道输送；及

至少一个沉积源，配置在所述工艺腔室的内部，并向所述掩模组合体及所述基板组合体侧提供所述有机物。

2.根据权利要求1所述的有机物沉积装置，其特征在于，

所述第一输送轨道及所述第二输送轨道沿着彼此相同的方向延伸并且平行。

3.根据权利要求2所述的有机物沉积装置，其特征在于，

所述掩模组合体包括：

掩模；

掩模框架，与所述掩模的边缘部结合；及

掩模载体，与所述掩模框架及所述第一输送轨道结合，并形成有开口部，所述开口部用于使所述掩模中除了所述掩模的所述边缘部外的其余部分暴露在外部，

所述基板组合体包括：

基板载体，与所述基板的边缘部及所述第二输送轨道结合，并形成有开口部，所述开口部用于使所述基板中除了所述基板的所述边缘部外的其余部分暴露在外部；及

夹紧部件，配置在所述基板载体上，用于夹紧所述基板的所述边缘部。

4.根据权利要求3所述的有机物沉积装置，其特征在于，

在所述工艺腔室的内部设置有多个所述沉积源，并且在多个所述沉积源中的至少两个提供彼此不同的有机物。

5.根据权利要求4所述的有机物沉积装置，其特征在于，

所述掩模组合体及所述基板组合体的数量分别与多个所述沉积源的数量相同。

6.根据权利要求5所述的有机物沉积装置，其特征在于，

与多个所述掩模组合体一对一地对应而设置有多个所述掩模，而且多个所述掩模中的至少一个为开放掩模，所述开放掩模与所述基板的单元区域对应而开口。

7.根据权利要求5所述的有机物沉积装置，其特征在于，

与多个所述掩模组合体一对一地对应而设置有多个所述掩模，而且多个所述掩模中的至少一个为构图掩模，所述构图掩模与所述基板的单元区域对应而形成有掩模图案。

8.根据权利要求3所述的有机物沉积装置，其特征在于，

在所述工艺腔室的内部设置有多个所述沉积源，并且在多个所述沉积源中的至少两个提供彼此相同的有机物。

9.根据权利要求8所述的有机物沉积装置，其特征在于，

所述掩模组合体及所述基板组合体的数量分别与多个所述沉积源的数量相同。

10.根据权利要求9所述的有机物沉积装置，其特征在于，

与多个所述掩模组合体一对一地对应而设置有多个所述掩模，而且多个所述掩模中的至少一个为开放掩模，所述开放掩模与所述基板的单元区域对应而开口。

11.根据权利要求9所述的有机物沉积装置，其特征在于，

与多个所述掩模组合体一对一地对应而设置有多个所述掩模，而且多个所述掩模中的至少一个为构图掩模，所述构图掩模与所述基板的单元区域对应而形成有掩模图案。

12.根据权利要求3所述的有机物沉积装置，其特征在于，

所述第一输送轨道及所述第二输送轨道分别沿着第一方向延伸，在所述掩模载体设置有沿所述第一方向形成并与所述第一输送轨道结合的第一槽，在所述基板载体设置有沿所述第一方向形成并与所述第二输送轨道结合的第二槽。

13.根据权利要求12所述的有机物沉积装置，其特征在于，

所述掩模组合体通过磁浮方式沿所述第一输送轨道输送，所述基板组合体通过磁浮方式沿所述第二输送轨道输送。

14.根据权利要求1所述的有机物沉积装置，其特征在于，进一步包括：

传感部，用于感测所述第一输送轨道和所述第二输送轨道之间的间隔及所述掩模组合体和所述基板组合体之间的间隔中的至少一者。