[发明专利]用于TFT基板清洗的免损伤清洗液及其使用方法有效
| 申请号： | 201310312130.4 | 申请日： | 2013-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN103396903A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 阮军;舒滔 | 申请（专利权）人： | 惠晶显示科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C11D3/06 | 分类号： | C11D3/06;C11D3/04;B08B3/08;C11D1/83 |
| 代理公司： | 张家港市高松专利事务所(普通合伙) 32209 | 代理人： | 孙高 |
| 地址： | 215614 江苏省苏州市张家*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 tft 清洗 损伤 及其 使用方法 | ||
1.用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，其特征在于：包括磷酸二氢钙、磷酸、硝酸和水，其中磷酸二氢钙所占的质量百分比为1～10％，磷酸所占的质量百分比为20～40％，硝酸所占的质量百分比为5～20％。
2.根据权利要求1所述的用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，其特征在于：还包括阴离子表面活性剂和/或非离子表面活性剂。
3.根据权利要求2所述的用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，其特征在于：所述阴离子表面活性剂和/或非离子表面活性剂所占的质量百分比为0.1-2％。
4.根据权利要求3所述的用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，其特征在于：所述阴离子表面活性剂选自十二烷基苯磺酸钠、甘胆酸钠、三乙醇胺皂、二辛基琥珀酸磺酸钠中的至少一种。
5.根据权利要求3所述的用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，其特征在于：所述非离子表面活性剂选自油酸、月桂酸中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，其特征在于：所述磷酸二氢钙所占的质量百分比为4～7％，磷酸所占的质量百分比为25～33％，硝酸所占的质量百分比为10～18％。
7.上述的用于TFT基板清洗的免损伤清洗液的使用方法，其特征在于：包括如下步骤：将表面清洁的铝硅酸盐玻璃放入上述清洗液中进行浸泡，清洗液的温度为30-36摄氏度，根据不同的铝硅酸盐玻璃的损伤种类来选择前清洗的时间，前清洗完成后，可将玻璃基板直接放入蚀刻液中进行正常蚀刻。
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