[发明专利]用于TFT基板清洗的免损伤清洗液及其使用方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于TFT基板清洗的免损伤清洗液及其使用方法。

背景技术

由于手机、NB面板追求外形时尚、轻便可携的超薄设计，随着TFT面板的市场需求越来越大，TFT面板减薄需求也越来越大。

TFT-LCD基板主要生产方式有三种：浮法、狭缝下引法和溢流熔融法。本专利配方主要针对浮法玻璃，由于浮法玻璃下表面和锡槽接触，导致下表面碱性氧化物增加以及金属锡高温渗透进入玻璃内部，以及玻璃内部的大量气泡导致玻璃内部和表面产生缺陷。同时TFT-LCD在制作过程中，由于恶劣化学环境和高温加工处理，会造成TFT-LCD基板的表面微损伤。

由于一直以来，TFT-LCD玻璃基板内部缺陷和表面损伤薄化前肉眼无法观察，薄化完成后又不好判断是什么原因导致；同时人们缺少对玻璃本身结构的研究，所以面对薄化后基板表面的损伤，现在只有使用物理抛光的方法来进行后处理。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种能在玻璃薄化前，消除玻璃内部缺陷和表面微损伤的用于TFT基板清洗的免损伤清洗液及其使用方法。

为解决上述问题，本发明采用的技术方案是：用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，包括磷酸二氢钙、磷酸、硝酸和水，其中磷酸二氢钙所占的质量百分比为1～10％，磷酸所占的质量百分比为20～40％，硝酸所占的质量百分比为5～20％。

还包括阴离子表面活性剂和/或非离子表面活性剂。

所述阴离子表面活性剂和/或非离子表面活性剂所占的质量百分比为0.1-2％。

所述阴离子表面活性剂选自十二烷基苯磺酸钠、甘胆酸钠、三乙醇胺皂、二辛基琥珀酸磺酸钠中的至少一种。

所述非离子表面活性剂选自油酸、月桂酸中的至少一种。

所述磷酸二氢钙所占的质量百分比为4～7％，磷酸所占的质量百分比为25～33％，硝酸所占的质量百分比为10～18％。

上述的用于TFT基板清洗的免损伤清洗液的使用方法，包括如下步骤：将表面清洁的铝硅酸盐玻璃放入上述清洗液中进行浸泡，清洗液的温度为30-36摄氏度，根据不同的铝硅酸盐玻璃的损伤种类来选择前清洗的时间，前清洗完成后，可将玻璃基板直接放入蚀刻液中进行正常蚀刻。

本发明的有益效果是：玻璃正常蚀刻前，将TFT玻璃基板浸泡在此清洗液中，能够有效的将TFT玻璃表面的损伤降低到目标范围内，并且不会影响玻璃的其他表面效果。

具体实施方式

下面通过具体实施例对本发明所述的用于TFT基板清洗的免损伤清洗液及其使用方法作进一步的详细描述。

用于TFT基板清洗的免损伤清洗液，包括磷酸二氢钙、磷酸、硝酸和水，其中磷酸二氢钙所占的质量百分比为1～10％，磷酸所占的质量百分比为20～40％，硝酸所占的质量百分比为5～20％。上述3种物质均必不可少，且其在清洗液中的浓度(本发明中提到的浓度指以清洗液的总重量为基准，物质的重量百分含量)均应满足上述要求，否则不能既对铝硅酸盐玻璃内部的结构性损伤和表面的微损伤起到抑制的作用，同时不影响玻璃表面效果。若上述三种物质之一浓度偏高，容易造成玻璃表面厚度不均，如果上述3种物质之一的浓度偏低，不能起到抑制玻璃内部的结构性损伤和表面的微损伤扩大的目的。

当磷酸二氢钙的浓度高于10％时，玻璃表面容易产生凸起或者蚀刻不均，当磷酸浓度小于1％时，不能起到抑制玻璃内部的结构性损伤和表面的微损伤扩大的目的。

当磷酸的浓度大于40％时，玻璃表面的厚度不均匀，当磷酸的浓度小于20％时，同样条件下，不能有效的抑制玻璃内部的结构性损伤和表面的微损伤到40um。

当硝酸的浓度大于20％时，不能有效的抑制玻璃内部的结构性损伤和表面的微损伤到40um，当硝酸浓度小于5％时，玻璃表面会产生凸起和蚀刻不均。

还包括阴离子表面活性剂和/或非离子表面活性剂。所述阴离子表面活性剂和/或非离子表面活性剂所占的质量百分比为0.1-2％。所述的阴离子表面活性剂的选择没有特别的限制，可选常用的阴离子表面活性剂，例如十二烷基苯磺酸钠、甘胆酸钠、二辛基琥珀酸磺酸钠、三乙醇胺皂、碱土金属皂、脂肪族磺酸化物、烷基芳基磺酸化物、烷基磷酸酯盐、醇醚、酚醚的磷酸酯盐等，优选十二烷基苯磺酸钠、三乙醇胺皂、脂肪族磺酸化物其中的至少一种。所述的非离子表面活性剂的选择没有特别限制，可选常用的非离子表面活性剂，例如油酸、硬脂酸、月桂酸、硫酸化油、高级脂肪醇硫酸脂，优选油酸、月桂酸其中的至少一种。