[发明专利]压力缓冲设备和悬挂设备有效
申请号: | 201310320219.5 | 申请日: | 2013-07-26 |
公开(公告)号: | CN103836108B | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 远藤裕 | 申请(专利权)人: | 株式会社昭和 |
主分类号: | F16F9/348 | 分类号: | F16F9/348 |
代理公司: | 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 | 代理人: | 吴立;邹轶鲛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 压力 缓冲 设备 悬挂 | ||
1.一种压力缓冲设备,包括:
缸体,该缸体被配置成存储液体;
分隔构件,该分隔构件被配置成将所述缸体内的空间分隔成用于存储所述液体的第一液体腔和第二液体腔;
通道部,该通道部被配置成形成从所述第二液体腔到所述第一液体腔的液体通道;
放开和阻断部,该放开和阻断部被配置成放开和阻断经由所述通道部从所述第二液体腔流向所述第一液体腔的液体流;
第一空间形成部,该第一空间形成部与所述放开和阻断部的一侧相对,并且被配置成形成用于接收所述液体的流入的空间;
第二空间形成部,该第二空间形成部与所述放开和阻断部的另一侧相对,并且被配置成形成用于接收所述液体的流入的空间;
连接至所述通道部的第一流入部,该第一流入部被配置成形成所述液体从所述通道部到所述第一空间形成部的流入路径,并且具有比所述通道部的通道截面积小的通道截面积;以及
连接至所述通道部的第二流入部,该第二流入部被配置成形成液体从所述通道部到所述第二空间形成部的流入路径,并且具有比所述第一流入部的通道截面积大且比所述通道部的通道截面积小的通道截面积。
2.如权利要求1所述的压力缓冲设备,其中:
所述分隔构件包括连通通道,该连通通道被配置成允许所述液体在所述第一液体腔与所述第二液体腔之间的流动;
所述压力缓冲设备进一步包括杆构件,该杆构件为棒状构件;
所述杆构件被配置成保持所述分隔构件在轴向上的一端侧并在轴向上运动;并且
所述通道部形成在所述杆构件中。
3.如权利要求1或2所述的压力缓冲设备,进一步包括:
对向构件,该对向构件设置成与所述放开和阻断部相对;
其中,所述第二流入部是由设置在所述对向构件中的切口配置而成,并且所述第二流入部形成为连接所述通道部和所述第二空间形成部。
4.如权利要求1或2所述的压力缓冲设备,进一步包括:
对向构件,该对向构件设置成与所述放开和阻断部相对;
其中,所述第二流入部是由设置在所述对向构件中的孔配置而成,并且所述第二流入部形成为连接所述通道部和所述第二空间形成部。
5.一种悬挂设备,包括:
弹簧,该弹簧被配置成减小振动和冲击;以及
压力缓冲设备,该压力缓冲设备被配置成通过所述弹簧来衰减振动;
其中,所述压力缓冲设备包括:
缸体,该缸体被配置成存储液体;
分隔构件,该分隔构件被配置成将所述缸体内的空间分隔成用于存储所述液体的第一液体腔和第二液体腔;
通道部,该通道部被配置成形成从所述第二液体腔到所述第一液体腔的液体通道;
放开和阻断部,该放开和阻断部被配置成放开和阻断经由所述通道部从所述第二液体腔流向所述第一液体腔的液体流;
第一空间形成部,该第一空间形成部与所述放开和阻断部的一侧相对,并且被配置成形成用于接收所述液体的流入的空间;
第二空间形成部,该第二空间形成部与所述放开和阻断部的另一侧相对,并且被配置成形成用于接收所述液体的流入的空间;
连接至所述通道部的第一流入部,该第一流入部被配置成形成所述液体从所述通道部到所述第一空间形成部的流入路径,并且具有比所述通道部的通道截面积小的通道截面积;以及
连接至所述通道部的第二流入部,该第二流入部被配置成形成液体从所述通道部到所述第二空间形成部的流入路径,并且具有比所述第一流入部的通道截面积大且比所述通道部的通道截面积小的通道截面积。
6.如权利要求5所述的悬挂设备,其中:
所述分隔构件包括连通通道,该连通通道被配置成允许所述液体在所述第一液体腔与所述第二液体腔之间的流动;
所述压力缓冲设备进一步包括杆构件,该杆构件为棒状构件;
所述杆构件被配置成保持所述分隔构件在轴向上的一端侧并在轴向上运动;并且
所述通道部形成在所述杆构件中。
7.如权利要求5或6所述的悬挂设备,进一步包括:
对向构件,该对向构件设置成与所述放开和阻断部相对;
其中,所述第二流入部是由设置在所述对向构件中的切口配置而成,并且所述第二流入部形成为连接所述通道部和所述第二空间形成部。
8.如权利要求5或6所述的悬挂设备,进一步包括:
对向构件,该对向构件设置成与所述放开和阻断部相对;
其中,所述第二流入部是由设置在所述对向构件中的孔配置而成,并且所述第二流入部形成为连接所述通道部和所述第二空间形成部。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社昭和,未经株式会社昭和许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310320219.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。