[发明专利]一种印制电路板及其盘中孔的制作方法、以及印制电路板在审
申请号: | 201310329741.X | 申请日: | 2013-07-31 |
公开(公告)号: | CN104349587A | 公开(公告)日: | 2015-02-11 |
发明(设计)人: | 李金鸿;陈显任;罗龙 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;珠海方正科技高密电子有限公司;方正信息产业控股有限公司 |
主分类号: | H05K1/11 | 分类号: | H05K1/11;H05K3/42 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 张恺宁 |
地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 印制 电路板 及其 盘中孔 制作方法 以及 | ||
1.一种印制电路板的盘中孔的制作方法,其特征在于,该方法包括:
在电路板上制作厚铜区域对应的盘中孔,对所述电路板进行沉铜和电镀处理,使所述盘中孔的孔铜厚度达到第一孔铜厚度范围;
将干膜覆盖在电镀处理后的电路板的外表面,将与盘中孔的孔口区域重叠的干膜去除;
对覆盖干膜的电路板的盘中孔进行镀孔处理,使所述盘中孔的孔铜厚度大于第二孔铜厚度阈值;
去除电路板上的干膜,对所述盘中孔进行塞孔,并在所述盘中孔表面形成焊盘。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将与盘中孔的孔口区域重叠的干膜去除,具体包括:
去除的干膜的面积小于盘中孔的孔口面积。
3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述盘中孔的第一孔铜厚度在25μm~35μm之间。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第二孔铜厚度阈值为50μm~100μm。
5.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述对所述盘中孔进行塞孔处理包括:
采用真空塞孔的方法,对所述盘中孔进行树脂塞孔处理。
6.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,对覆盖干膜的电路板的盘中孔进行镀孔处理具体为:采用脉冲电镀的方式进行镀孔。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述去除电路板上的干膜之后,对所述盘中孔进行塞孔处理之前,还包括:
去除镀孔处理后的盘中孔的孔口位置突出的铜。
8.一种具有盘中孔的印制电路板的制作方法,其特征在于,包含权1~7任一所述局部厚铜盘中孔的制作方法,所述印制电路板的制作方法进一步包括:
在对所述盘中孔进行塞孔处理之后,
在电路板上的制作其他孔,对所述孔进行孔金属化处理;
对所述孔金属化处理后的电路板进行外层图形转移处理。
9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述对盘中孔进行塞孔处理之后,在电路板上的制作其他孔之前,还包括:
判断电路板的外表面的面铜厚度是否大于设定的面铜厚度阈值,若大于,则对电路板的外表面的面铜进行减铜处理。
10.一种具有盘中孔的印制电路板,其特征在于,该电路板含有权利要求1~9任一所述的方法制作形成的印制电路板。
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