[发明专利]一种印制电路板及其盘中孔的制作方法、以及印制电路板在审

专利信息
申请号: 201310329741.X 申请日: 2013-07-31
公开(公告)号: CN104349587A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 李金鸿;陈显任;罗龙 申请(专利权)人: 北大方正集团有限公司;珠海方正科技高密电子有限公司;方正信息产业控股有限公司
主分类号: H05K1/11 分类号: H05K1/11;H05K3/42
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 张恺宁
地址: 100871 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 印制 电路板 及其 盘中孔 制作方法 以及
【权利要求书】:

1.一种印制电路板的盘中孔的制作方法,其特征在于,该方法包括:

在电路板上制作厚铜区域对应的盘中孔,对所述电路板进行沉铜和电镀处理,使所述盘中孔的孔铜厚度达到第一孔铜厚度范围;

将干膜覆盖在电镀处理后的电路板的外表面,将与盘中孔的孔口区域重叠的干膜去除;

对覆盖干膜的电路板的盘中孔进行镀孔处理,使所述盘中孔的孔铜厚度大于第二孔铜厚度阈值;

去除电路板上的干膜,对所述盘中孔进行塞孔,并在所述盘中孔表面形成焊盘。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将与盘中孔的孔口区域重叠的干膜去除,具体包括:

去除的干膜的面积小于盘中孔的孔口面积。

3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述盘中孔的第一孔铜厚度在25μm~35μm之间。

4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第二孔铜厚度阈值为50μm~100μm。

5.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述对所述盘中孔进行塞孔处理包括:

采用真空塞孔的方法,对所述盘中孔进行树脂塞孔处理。

6.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,对覆盖干膜的电路板的盘中孔进行镀孔处理具体为:采用脉冲电镀的方式进行镀孔。

7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述去除电路板上的干膜之后,对所述盘中孔进行塞孔处理之前,还包括:

去除镀孔处理后的盘中孔的孔口位置突出的铜。

8.一种具有盘中孔的印制电路板的制作方法,其特征在于,包含权1~7任一所述局部厚铜盘中孔的制作方法,所述印制电路板的制作方法进一步包括:

在对所述盘中孔进行塞孔处理之后,

在电路板上的制作其他孔,对所述孔进行孔金属化处理;

对所述孔金属化处理后的电路板进行外层图形转移处理。

9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述对盘中孔进行塞孔处理之后,在电路板上的制作其他孔之前,还包括:

判断电路板的外表面的面铜厚度是否大于设定的面铜厚度阈值,若大于,则对电路板的外表面的面铜进行减铜处理。

10.一种具有盘中孔的印制电路板,其特征在于,该电路板含有权利要求1~9任一所述的方法制作形成的印制电路板。

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