[发明专利]一种基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法无效
| 申请号： | 201310331495.1 | 申请日： | 2013-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN103364477A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 孙建军;郑朝燕;陈珊 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | G01N27/48 | 分类号： | G01N27/48 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 电位 调控 伏安 痕量 金属 离子 检测 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法，其特征在于：先用电化学方法将待测液中金属离子富集沉积到惰性工作电极表面；然后通过电位调控，在短时间内施加一适当电位，使干扰离子预先溶出；最后再用伏安法进行待测金属离子的溶出，并记录溶出伏安曲线。
2.根据权利要求1所述的基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法，其特征在于：将惰性工作电极、参比电极和辅助电极的电极体系置于待测液中，将溶液中痕量金属离子富集沉积到惰性工作电极上的电化学方法为恒电位法、线性扫描法、循环伏安法中的一种或多种组合。
3.根据权利要求1所述的基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法，其特征在于：使干扰离子预先溶出的电化学方法为恒电位法、线性扫描法、循环伏安法中的一种或多种组合；预溶出过程中，恒电位法所设定的溶出电位、线性扫描法或循环伏安法所设定的扫描电位的上限小于待测金属离子的溶出电位。
4.根据权利要求1所述的基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法，其特征在于：所述的痕量金属离子的伏安溶出方法为方波伏安法、微分脉冲伏安法、线性扫描法、循环伏安法中的一种或多种组合。
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