[发明专利]等离子体处理装置的冷却液处理系统及方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置的冷却液处理系统，包括：

至少一个用于冷却等离子体处理装置基台和/或基片的冷却液通道；

与所述冷却液通道相连的冷却液循环装置，其包括与所述冷却液通道入口端相连的供液管道以及与所述冷却液通道出口端相连的回液管道；

分别布置于所述供液管道和回液管道上的第一隔离装置和第二隔离装置，其中，所述第一隔离装置用于控制所述供液管道的启闭，所述第二隔离装置用于控制所述回液管道的启闭；

其特征在于，还包括

冷却液处理单元，其包括位于所述供液管道和/或所述回液管道上的一个或多个控制阀，用于当所述第一隔离装置关闭时，通过所述一个或多个控制阀的启闭配合，以去除所述冷却液通道、供液管道和/或回液管道中的残留冷却液。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置的冷却液处理系统，其特征在于，所述供液管道上布置有一控制阀，其中，所述控制阀位于所述冷却液通道入口端和第一隔离装置之间，以及

所述控制阀端口处还通入有气体，以去除所述冷却液通道、供液管道和/或回液管道中的残留冷却液。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置的冷却液处理系统，其特征在于，所述回液管道上布置有一控制阀，其中，所述控制阀位于所述冷却液通道出口端和第二隔离装置之间，以及

所述控制阀外还有一真空泵，当所述第二隔离装置关闭时，用以抽除所述冷却液通道、供液管道和/或回液管道中的残留冷却液。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置的冷却液处理系统，其特征在于，所述供液管道和回液管道上各布置有一控制阀，分别为第一控制阀和第二控制阀，其中，所述第一控制阀位于所述冷却液通道入口端和第一隔离装置之间，所述第二控制阀位于所述冷却液通道出口端和第二隔离装置之间，以及

所述第一控制阀端口处还通入有气体，当所述第二隔离装置关闭时，用以去除所述冷却液通道、供液管道和/或回液管道中的残留冷却液。

5.根据权利要求2或4所述的等离子体处理装置的冷却液处理系统，其特征在于，所述气体为N₂、空气或CO₂中的任意一种或多种气体的混合物。

6.根据权利要求2或4所述的等离子体处理装置的冷却液处理系统，其特征在于，所述通入气体的压强为0.3-0.5MPa。

7.一种等离子体处理装置的冷却液处理方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1：关闭第一隔离装置，以停止供液；

步骤S2：向所述控制阀端口处通入气体，以驱动残留冷却液的流动；

步骤S3：开启所述控制阀，以去除冷却液通道、供液管道和回液管道中的残留冷却液。

步骤S4：关闭所述控制阀和第二隔离装置。

8.根据权利要求7所述的冷却液处理方法，其特征在于，在关闭所述第一隔离装置前，所述控制阀处于关闭状态。

9.一种等离子体处理装置的冷却液处理方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S11：关闭第一隔离装置和第二隔离装置，以停止供液和回液；

步骤S21：开启控制阀，通过置于所述控制阀外的真空泵来抽除冷却液通道、供液管道和回液管道中的残留冷却液；

步骤S31：所述真空泵无明显滴液时，关闭真空泵。

10.一种等离子体处理装置的冷却液处理方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S12：关闭第一隔离装置和第二隔离装置，以停止供液和回液；

步骤S22：向第一控制阀端口处通入气体，以驱动残留冷却液的流动；

步骤S32：开启所述第一控制阀和第二控制阀，以去除冷却液通道、供液管道和回液管道中的残留冷却液；

步骤S42：所述第二隔离装置处无明显滴液时，关闭所述的第一控制阀和第二控制阀。

11.根据权利要求9或10所述的冷却液处理方法，其特征在于，在关闭第一隔离装置和第二隔离装置前，所述控制阀处于关闭状态。