[发明专利]等离子体处理装置的冷却液处理系统及方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种等离子体处理装置的冷却液处理系统及方法。

背景技术

目前，在等离子体处理装置制备半导体元件的过程中常会用到冷却液处理系统，其包括至少一个用于冷却等离子体处理装置基台和/或基片的冷却液通道；与所述冷却液通道相连的冷却液循环装置，其包括与所述冷却液通道入口端相连的供液管道以及与所述冷却液通道出口端相连的回液管道；分别布置于所述供液管道和回液管道上的第一隔离装置和第二隔离装置，其中，所述第一隔离装置用于控制所述供液管道的启闭，所述第二隔离装置用于控制所述回供液管道的启闭。

如图1所示，所述等离子体处理装置100中具有若干冷却液通道，所述冷却液通道外接冷却液循环装置从而能够持续地提供冷却液，以冷却等离子体处理装置100的基台和/或基片，进而使得半导体元件的制造工艺维持在预期温度范围内，降低产品的失效率；同时还可避免等离子体处理装置100的基台和/或基片过热，导致等离子体处理装置100的使用寿命大大减低。在日常维修或者更换冷却系统部件（如快速接头，冷却管路，冷却设备等）时，由于等离子体处理装置的冷却液处理系统无法预先去除系统中（主要为供液管道、回液管道以及冷却液通道）残留的冷却液，那么在维修或者更换冷却系统的部件时就会导致残留冷却液的大量外漏，进而引起冷却液的浪费及能量的损失等问题。这不仅增加了额外的生产成本，还造成了室内较差的工作环境，进而可能致使产品较高的失效率，降低生产效率。

为此，如何对现有等离子体处理装置的冷却液处理系统进行改良，以有效去除系统中的残留冷却液，营造一个整洁的工作环境，从而提高生产效率，成为目前业界急需解决的问题。

发明内容

本发明的主要目的为，针对上述问题，提出了一种等离子体处理装置的冷却液处理系统，通过增加一冷却液处理单元，其包括位于所述供液管道和/或所述回液管道上的一个或多个控制阀，用于当所述第一隔离装置关闭时，通过所述一个或多个控制阀的启闭配合，以去除所述冷却液通道、供液管道和/或回液管道中的残留冷却液，并收集。

为达成上述目的，本发明等离子体处理装置的冷却液处理系统，包括：

至少一个用于冷却等离子体处理装置基台和/或基片的冷却液通道；

与所述冷却液通道相连的冷却液循环装置，其包括与所述冷却液通道入口端相连的供液管道以及与所述冷却液通道出口端相连的回液管道；

分别布置于所述供液管道和回液管道上的第一隔离装置和第二隔离装置，其中，所述第一隔离装置用于控制所述供液管道的启闭，所述第二隔离装置用于控制所述回液管道的启闭；

还包括一冷却液处理单元，其包括位于所述供液管道和/或所述回液管道上的一个或多个控制阀，用于当所述第一隔离装置关闭时，通过所述一个或多个控制阀的启闭配合，以去除所述冷却液通道、供液管道和/或回液管道中的残留冷却液。

优选地，所述供液管道上布置有一控制阀，其中，所述控制阀位于所述冷却液通道入口端和第一隔离装置之间，以及

所述控制阀端口处还通入有气体，以去除所述冷却液通道、供液管道和回液管道中的残留冷却液。

优选地，所述回液管道上布置有一控制阀，其中，所述控制阀位于所述冷却液通道出口端和第二隔离装置之间，以及

所述控制阀外还有一真空泵，当所述第二隔离装置关闭时，用以抽除所述冷却液通道、供液管道和/或回液管道中的残留冷却液。

优选地，所述供液管道和回液管道上各布置有一控制阀，分别为第一控制阀和第二控制阀，其中，所述第一控制阀位于所述冷却液通道入口端和第一隔离装置之间，所述第二控制阀位于所述冷却液通道出口端和第二隔离装置之间，以及

所述第一控制阀端口处还通入有气体，当所述第二隔离装置关闭时，用以去除所述冷却液通道、供液管道和/或回液管道中的残留冷却液。

优选地，所述气体为N₂、空气或CO₂中的任意一种或多种气体的混合物。

优选地，所述通入气体的压强为0.3-0.5MPa。

此外，为达成上述目的，本发明还提供了一种等离子体处理装置的冷却液处理方法，其包括如下步骤：

步骤S1：关闭第一隔离装置，以停止供液；

步骤S2：向控制阀端口处通入气体，以驱动残留冷却液的流动；

步骤S3：开启所述控制阀，以去除冷却液通道、供液管道和/或回液管道中的残留冷却液。

步骤S4：关闭控制阀和第二隔离装置。