[发明专利]基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备

权利要求书

1.一种基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备，包括上抛光盘、保持架和下抛光盘。所述上抛光盘位于下抛光盘上方，所述保持架位于上抛光盘与下抛光盘之间，其特征在于：所述的上抛光盘上安装第一电极板，所述第一电极板与交流电源的第一引出端连接，所述下抛光盘上安装第二电极板，所述第二电极板与所述交流电源的第二引出端连接；所述的交流电源的电流输入端与用于控制所述的交流电源的电压与频率的调频调压控制器连接。

2.如权利要求1所述的基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备，其特征在于：所述的上抛光盘内安装有第一绝缘板，所述第一电极板安装在所述第一绝缘板上；所述的下抛光盘内安装有第二绝缘板，所述第二电极板安装在所述第二绝缘板上。

3.如权利要求1所述的基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备，其特征在于：所述的上抛光盘为绝缘材料抛光盘，所述的下抛光盘为绝缘材料抛光盘。

4.如权利要求1～3之一所述的基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备，其特征在于：所述保持架的转轴和下研磨盘的转轴呈同轴设置，所述上抛光盘的转轴与所述下抛光盘的转轴存在确定偏距，加载装置位于所述上抛光盘上。

5.如权利要求4所述的基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备，其特征在于：所述下抛光盘的转轴呈中空状，下抛光盘的中部开有通孔，所述保持架的转轴穿过所述下抛光盘的转轴内腔和通孔。

6.如权利要求1～3之一所述的基于介电泳效应的双平面研磨/抛光圆柱形零件设备，其特征在于：所述保持架呈圆盘状，所述保持架的盘面上开有供待加工零件放置的加工槽，呈放射状、同心圆状或栅格状分布。