[发明专利]溅射靶及包括通过其沉积的黑矩阵的有机发光显示装置

权利要求书

1.一种在有机发光显示装置中沉积黑矩阵的溅射工艺中使用的溅射靶，所述溅射靶具有混合了金属和金属氧化物的金属陶瓷结构。

2.如权利要求1所述的溅射靶，其中，金属包括从由Mo、Si、W、Mn和Co组成的组中选择的至少一种。

3.如权利要求1所述的溅射靶，其中，金属氧化物包括从由Mo、Si、W、Mn和Co组成的组中选择的至少一种与O的化合物。

4.一种有机发光显示装置，包括：

基底，在基底上限定有第一区域和第二区域；

黑矩阵，形成在第二区域上；

绝缘层，形成在第一区域和黑矩阵上；

有机发光器件，对应于第一区域形成在绝缘层上；

薄膜晶体管，对应于第二区域形成在绝缘层上，

其中，黑矩阵具有混合了金属和金属氧化物的金属陶瓷结构。

5.如权利要求4所述的有机发光显示装置，其中，金属包括从由Mo、Si、W、Mn和Co组成的组中选择的至少一种。

6.如权利要求4所述的有机发光显示装置，其中，金属氧化物包括从由Mo、Si、W、Mn和Co组成的组中选择的一种与O的化合物。

7.如权利要求4所述的有机发光显示装置，所述有机发光显示装置具有底部发射结构。